[实用新型]一种刻蚀机传片装置

说明书

本实用新型提供一种刻蚀机传片装置。所述刻蚀机传片装置包括操作台；转盘，所述转盘转动安装在所述操作台的顶部；三个通孔，三个所述通孔对称开设在所述转盘上；两个支撑架，两个所述支撑架对称滑动安装在所述通孔内，且所述支撑架在通孔内能够沿竖直和水平方向滑动；下料孔，所述下料孔开设在所述操作台上；收集壳，所述收集壳固定安装在所述操作台的底部，且所述收集壳与所述下料孔相对应；上料壳，所述上料壳固定安装在所述操作台的顶部，所述转盘延伸至上料壳内。本实用新型提供的刻蚀机传片装置具有集上料下料于一体，连续性强，效率高，同时，可以集中上下料，进而减少与外部环境联系的优点。

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，尤其涉及一种刻蚀机传片装置。

背景技术

在半导体生产时，需要通过刻蚀进行刻蚀，在刻蚀机刻蚀时，一般通过传片装置将晶圆传送至刻蚀机内，目前，传片装置在真空的环境工作，但是，由于传统的传片装置不能集中进行上料和下料，需要频繁的与真空环境外进行联系，进而需要不断的对其工作环境做真空处理，效率低，且能耗高。

因此，有必要提供一种新的刻蚀机传片装置解决上述技术问题。

实用新型内容

本实用新型解决的技术问题是提供一种集上料下料于一体，连续性强，效率高，同时，可以集中上下料，进而减少与外部环境联系的刻蚀机传片装置。

为解决上述技术问题，本实用新型提供的刻蚀机传片装置包括：操作台；转盘，所述转盘转动安装在所述操作台的顶部；三个通孔，三个所述通孔对称开设在所述转盘上；两个支撑架，两个所述支撑架对称滑动安装在所述通孔内，且所述支撑架在通孔内能够沿竖直和水平方向滑动；下料孔，所述下料孔开设在所述操作台上；收集壳，所述收集壳固定安装在所述操作台的底部，且所述收集壳与所述下料孔相对应；上料壳，所述上料壳固定安装在所述操作台的顶部，所述转盘延伸至上料壳内；固定架，所述固定架固定安装在所述操作台的顶部；推料气缸，所述推料气缸固定安装在所述固定架上；夹具，所述夹具固定安装在所述推料气缸的输出轴上。

优选的，所述操作台的底部固定安装有电机，所述电机的输出轴与转盘固定连接。

优选的，所述通孔的内壁上开设有滑动孔，所述滑动孔内滑动安装有壳体，所述壳体内固定安装有导向杆，所述支撑架延伸至壳体内与导向杆滑动连接，所述导向杆上滑动套设有第一弹簧，所述第一弹簧的两端分别与壳体的内壁和支撑架固定连接。

优选的，所述支撑架上固定安装有第一楔形块，所述壳体内滑动安装有第二楔形块，所述第二楔形块与第一楔形块滑动连接，所述壳体内设有第二弹簧，所述第二弹簧的两端分别与导向杆和第二楔形块固定连接。

优选的，所述壳体上滑动安装有第一推杆，所述操作台上固定安装有斜块，所述斜块位于下料孔的一侧，且斜块与第一推杆相适配。

优选的，所述转盘的底部对称滑动安装有三个第二推杆，所述第二推杆的顶端延伸至对应的滑动孔内并与壳体固定连接，所述第二推杆上滑动套设有第三弹簧，所述第三弹簧的两端分别与滑动孔的内壁和壳体固定连接。

优选的，所述操作台上开设有弧形槽，所述弧形槽与第二推杆相适配，且所述弧形槽内设有斜面。

与相关技术相比较，本实用新型提供的刻蚀机传片装置具有如下有益效果：

本实用新型提供一种刻蚀机传片装置，两个所述支撑架对称滑动安装在所述通孔内，且所述支撑架在通孔内能够沿竖直和水平方向滑动，可以对晶圆进行支撑，且可以改变通孔的深度，进而实现上料，同时，可以支撑架可以相互远离打开，进而实现下料；所述推料气缸固定安装在所述固定架上，所述夹具固定安装在所述推料气缸的输出轴上，可以将晶圆送入刻蚀机内。

附图说明

图1为本实用新型部分结构的立体图；

图2为图1所示的立体拆分图；