[实用新型]水转印反光膜

说明书

本实用新型公开一种水转印反光膜，该水转印反光膜包括依次层叠设置的薄膜层、离型层、耐腐蚀层、成像层、镀铝层和保护层，所述离型层为水熔性离型膜。本实用新型技术方案能够实现将水转印反光膜的上的图案顺利转印于产品上。

技术领域

本实用新型涉及水转印技术领域，特别涉及一种水转印反光膜。

背景技术

随着人们生活水平的日益提高，对美的追求也越来越强烈，在一些塑胶或玻璃等制品上雕刻或印染花纹图文的现象也越来越多，现有技术中，也有通过人工喷涂实现在塑胶制品上印染花纹的，但是这样喷涂出的花纹，不太精致，并且不均匀，而且容易脱落受损。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种水转印反光膜，旨在实现将水转印反光膜的上的图案顺利转印于产品上。

为实现上述目的，本实用新型提出的水转印反光膜，包括依次层叠设置的薄膜层、离型层、耐腐蚀层、成像层、镀铝层和保护层，所述离型层为水熔性离型膜。

可选地，所述薄膜层由聚对苯二甲酸乙二醇酯为原料，并由挤出法制成厚片，再经双向拉伸制成。

可选地，所述耐腐蚀层的厚度为大于或者0.5μm，小于或者10μm。

可选地，所述耐腐蚀层的材质为酚醛树脂、聚氨酯树脂、聚四氟乙烯及碳纤维中的一种。

可选地，所述耐腐蚀层由空气喷涂工艺粘接固定于所述成像层的层面。

可选地，所述镀铝层为在所述成像层采用真空镀铝法将铝镀于所述成像层背离所述离型层的一侧。

可选地，所述成像层由树脂材料紫外光照射固化制成或模压制成。

可选地，所述薄膜层的厚度大于或者10μm，小于或者20μm。

本实用新型技术方案通过依次层叠设置的薄膜层、离型层、耐腐蚀层、成像层、镀铝层和保护层形成水转印反光膜，该水转印反光膜适用于水转印工艺。其中，离型层为水熔性离型膜，以保证薄膜层顺利脱离成像层。该水溶性离型膜中含有水溶性离型剂，当水转印反光膜浸泡在水中时，水溶性离型剂失效溶解，使得薄膜层与成像层脱离，而后可进行水转印工序。同时，在成像层与离型层之间设置耐腐蚀层，以对成像层进行保护，降低有效地避免成像层受到环境中的水分、酸性物质的腐蚀而发生老化和褪色，使得成像层的图案能够保持完整以及高的清晰度，最终提高水转印反光膜的显示效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型水转印反光膜一实施例的结构示意图。

附图标号说明：