[实用新型]一种实现沟槽与电极互联的功率器件版图结构有效

专利信息
申请号: 202122903804.0 申请日: 2021-11-25
公开(公告)号: CN216450647U 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 马克强;蒋兴莉;胡强;王思亮 申请(专利权)人: 成都森未科技有限公司
主分类号: H01L29/423 分类号: H01L29/423;H01L29/417;H01L29/739
代理公司: 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 代理人: 苏丹
地址: 610000 四川省成都市中国(四川)自由贸*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 实现 沟槽 电极 功率 器件 版图 结构
【权利要求书】:

1.一种实现沟槽与电极互联的功率器件版图结构,包括衬底(00),所述衬底(00)的底部设置有注入层(01),其特征在于:所述衬底(00)的上部设置有发射极沟槽(03)与栅极沟槽(02),所述栅极沟槽(02)向外延伸,所述栅极沟槽(02)内直接开有用于与栅极相连接的第一接触孔(08),发射极沟槽(03)内直接开有与发射极相连的第二接触孔(07),所述第一接触孔(08)和第二接触孔(07)是通过同一张孔版经过掩膜刻蚀后形成的,所述第一接触孔(08)与第一金属层(05)相连,所述第二接触孔(07)与第二金属层(06)相连。

2.根据权利要求1所述的一种实现沟槽与电极互联的功率器件版图结构,其特征在于:所述第一接触孔(08)横向设置在栅极沟槽(02)中;第二接触孔(07)横向设置在发射极沟槽(03)中。

3.根据权利要求1所述的一种实现沟槽与电极互联的功率器件版图结构,其特征在于:所述第一接触孔(08)为竖向开孔,竖向设置的第一接触孔(08)穿过所有的栅极沟槽(02),且同一个第一接触孔(08)与所有的栅极沟槽(02)连通;与发射极沟槽(03)相连的第二接触孔(07)竖向开孔且穿过所有的发射极沟槽(03)并与所有的发射极沟槽(03)连通。

4.根据权利要求2或3所述的一种实现沟槽与电极互联的功率器件版图结构,其特征在于:所述发射极沟槽(03)之间设有形成发射区的N+区,所述栅极沟槽(02)之间也设有与发射极相连的第二接触孔(07)。

5.根据权利要求2或3所述的一种实现沟槽与电极互联的功率器件版图结构,其特征在于:所述栅极沟槽(02)相较于发射极沟槽(03)多延伸20um-30um。

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