[实用新型]一种粗抛用磨具

说明书

本实用新型公开了一种粗抛用磨具，包括夹持部、胶垫及磨块，所述磨块包括基底和设置于基底上的磨齿，所述磨齿成排排列，相邻两排磨齿的大小和形状不同，并且相邻两排磨齿之间形成的纵向排水槽错位。本实用新型提供的粗抛用磨具，所述磨具通过设置大小不一的磨齿，使磨块既具有较大的磨抛速度，又能在粗抛的同时对砖面凹陷位进抛光，提高磨抛的效率和精度，为后续的中抛和精抛提供更为平整的砖面。同时，相邻排磨齿设置错位的纵向排水槽，能使磨块具有一定的保水量，进而能避免磨块过热，提高磨块的使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及瓷砖生产技术领域，特别涉及一种粗抛用磨具。

背景技术

瓷砖抛光是瓷砖生产过程中的工序之一，一般的抛光工序包括粗抛、中抛和精抛，粗抛工序主要针对表面平整度不好的砖面，通过粗抛，将表面凹凸不平进行打磨，变成较为平整的表面，然后再通过中抛和精抛，使砖面达到一定的光泽度，满足消费者的需要。现有抛光机中，粗抛、中抛和精抛均采用如图4所示结构的磨具，区别仅在于磨块细腻程度的不同。通常，粗抛采用的磨块材质较粗，具有较大的摩擦力，从而快速的将砖面磨平。而中抛和精抛采用材质较细腻的磨块，可实现精细抛光，以达到使砖面更亮的作用。图4所示的磨具磨块，磨齿大小相同，且分布均匀，针对表面平整度较佳的砖面，比较适合，但是对于粗抛的砖面，由于平整度差，磨齿大小均匀的磨块，其抛光效率反而下降，由于无法同时对凸位和凹陷位进行抛光，使得抛光效率降低。现有技术中，为了提高粗抛的速度，通常会加粗磨块的材质，但是磨块材质过粗时，容易形成划痕，反而会导致砖面不平整。

可见，现有技术还有待改进和提高。

实用新型内容

鉴于上述现有技术的不足之处，本实用新型的目的在于提供一种粗抛用磨具，旨在解决现有磨具在抛光较粗糙砖面时抛光效率低，且无法同时抛光砖面凸起位和凹陷位的缺陷。

为了达到上述目的，本实用新型采取了以下技术方案：

一种粗抛用磨具，包括夹持部、胶垫及磨块，其中，所述磨块包括基底和设置于基底上的磨齿，所述磨齿成排排列，相邻两排磨齿的大小和形状不同，并且相邻两排磨齿之间形成的纵向排水槽错位。

所述磨齿包括第一磨齿和第二磨齿，所述第一磨齿为长方形结构的磨齿，所述第二磨齿为正方形结构的磨齿，并且第一磨齿的顶面面积大于第二磨齿的顶面面积。

所述粗抛用磨具中，所述磨齿包括第一磨齿和第二磨齿，所述第一磨齿为长方形结构的磨齿，所述第二磨齿为三角形结构的磨齿，所述第二磨齿所在排形成倾斜的排水槽。

所述粗抛用磨具中，所述胶垫对应第二磨齿的位置设有凸柱，所述磨块对应凸柱的位置设有凹孔，所述凸柱与凹孔插接。

所述粗抛用磨具中，所述磨齿还包括设置于磨块头部的梯形磨齿。

所述粗抛用磨具中，所述磨齿的顶面边沿均为弧边。

所述粗抛用磨具中，所述基底和磨齿一体成型。

有益效果：

本实用新型提供了一种粗抛用磨具，所述磨具通过设置大小不一的磨齿，使磨块既具有较大的磨抛速度，又能在粗抛的同时对砖面凹陷位进抛光，提高磨抛的效率和精度，为后续的中抛和精抛提供更为平整的砖面。同时，相邻排磨齿设置错位的纵向排水槽，能使磨块具有一定的保水量，进而能避免磨块过热，提高磨块的使用寿命。

附图说明

图1为本实用新型提供的磨块的正视结构示意图。

图2为第二磨齿为三角状的磨块的正视结构示意图。

图3为磨具的仰视结构示意图。

图4为现有磨块的正视结构示意图。