[实用新型]CVD设备支撑轴动密封结构及CVD设备有效
申请号: | 202123029139.3 | 申请日: | 2021-12-06 |
公开(公告)号: | CN216274359U | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 宋德鹏;陈占领 | 申请(专利权)人: | 山东力冠微电子装备有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C30B11/00 |
代理公司: | 山东众成清泰律师事务所 37257 | 代理人: | 丁修亭 |
地址: | 250119 山东省济南市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | cvd 设备 支撑 密封 结构 | ||
1.一种CVD设备支撑轴动密封结构,其特征在于,包括:
支架;
水冷套,立式地安装在CVD设备的炉门下端;
密封部,安装在水冷套的下端,该密封部包括自润滑密封件;
其中,密封部用于坩埚支撑轴的导引密封,水冷套的套管用于坩埚支撑轴穿过而进入CVD设备的真空腔室。
2.根据权利要求1所述的CVD设备支撑轴动密封结构,其特征在于,所述自润滑密封件为聚四氟乙烯或改性聚四氟乙烯密封件。
3.根据权利要求2所述的CVD设备支撑轴动密封结构,其特征在于,所述自润滑密封件包括用于与水冷套连接的骨架,以及装设在骨架上的由聚四氟乙烯或改性聚四氟乙烯构造的密封环,而形成骨架轴封。
4.根据权利要求2或3所述的CVD设备支撑轴动密封结构,其特征在于,所述密封部为复合密封部,该复合密封部还进一步包括迷宫密封部;
迷宫密封部位于自润滑密封件的上侧。
5.根据权利要求4所述的CVD设备支撑轴动密封结构,其特征在于,迷宫密封部或者自润滑密封件各自为单级或两级密封。
6.一种CVD设备,其特征在于,包括如权利要求1~5任一所述的CVD设备支撑轴动密封结构;所述CVD设备还包括:
真空腔室,安装在所述支架上,下端与所述密封部连接;
坩埚,位于真空腔室内,承持在所述坩埚支撑轴的上端;
工作气配气系统,配装于所述真空腔室;
抽真空设备,配装于所述真空腔室;
旋转机构,输出连接所述坩埚支撑轴,以驱动坩埚支撑轴旋转;
升降机构,升降机构的升降部件作为旋转机构的安装基体,借以驱动坩埚支撑轴升降;
其中,坩埚支撑轴为水冷管轴。
7.根据权利要求6所述的CVD设备,其特征在于,所述升降机构为丝母丝杠机构,该丝母丝杠机构的丝杠螺母拖动一拖板;
所述旋转机构安装在所述拖板上。
8.根据权利要求7所述的CVD设备,其特征在于,为所述拖板在丝母丝杠机构的丝杠两侧各配置一个导引副;
拖板自丝杠螺母侧相对于丝母丝杠机构向外悬伸,拖板下表面具有支撑加强板。
9.根据权利要求8所述的CVD设备,其特征在于,所述导引副为:
第一结构:导杆导套副;
第二结构:燕尾槽导轨副。
10.根据权利要求8或9所述的CVD设备,其特征在于,导引副与升降机构分居于丝杠两侧。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的