[实用新型]一种平板式外延炉的吸盘装置有效
申请号: | 202123064343.9 | 申请日: | 2021-12-08 |
公开(公告)号: | CN216528819U | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 赵叶军;张倩;薛宏伟;袁肇耿;仇根忠;任丽翠 | 申请(专利权)人: | 河北普兴电子科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 张一 |
地址: | 050200 河北省石*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 平板 外延 吸盘 装置 | ||
1.一种平板式外延炉的吸盘装置,其特征在于,包括:
吸盘,所述吸盘内部设置有吸气腔;
连接杆,所述连接杆为中空结构,所述连接杆的一端固定安装在所述吸盘上且与所述吸气腔连通,另一端设置吸气口,所述吸气口与所述连接杆连通;
支撑杆,一端与所述吸盘固定连接,所述支撑杆为中空结构,所述支撑杆的一端与所述吸气腔连通。
2.如权利要求1所述的平板式外延炉的吸盘装置,其特征在于,所述连接杆远离所述吸盘的一端设置有与所述连接杆呈夹角设置的弯曲部,所述吸气口位于所述弯曲部上。
3.如权利要求1所述的平板式外延炉的吸盘装置,其特征在于,所述吸盘包括:
底盘,所述底盘内部设置有吸气槽,所述吸气槽与所述连接杆连通;
顶盘,与所述底盘密封连接,所述顶盘内部设置有吸附腔,所述吸附腔分别与所述吸气槽及所述支撑杆连通;
连接组件,设置在所述底盘与所述顶盘之间,用于将所述底盘与所述顶盘连接固定。
4.如权利要求3所述的平板式外延炉的吸盘装置,其特征在于,所述底盘与所述顶盘之间还设置有密封垫,所述密封垫围设在所述吸气槽的外侧。
5.如权利要求3所述的平板式外延炉的吸盘装置,其特征在于,所述连接组件包括:
过孔,设置在所述顶盘上;
螺纹孔,设置在所述底盘上且与所述过孔同轴设置;
紧固件,设置在所述顶盘与所述底盘之间,所述紧固件位于所述过孔内部且与所述螺纹孔螺纹连接。
6.如权利要求5所述的平板式外延炉的吸盘装置,其特征在于,所述吸气槽为环形结构,所述吸气槽的中心设置有凸台,所述螺纹孔位于所述凸台上。
7.如权利要求6所述的平板式外延炉的吸盘装置,其特征在于,所述凸台上设置有导向部,所述顶盘靠近所述底盘一侧设置有与所述导向部滑动配合的导向孔。
8.如权利要求7所述的平板式外延炉的吸盘装置,其特征在于,所述螺纹孔位于所述导向部上,所述过孔与所述导向孔同轴设置。
9.如权利要求6所述的平板式外延炉的吸盘装置,其特征在于,所述顶盘靠近所述底盘一侧设置有密封板,所述密封板与所述顶盘密封连接,所述密封板上设置有用于将所述吸气槽与所述吸附腔连通的吸气孔。
10.如权利要求9所述的平板式外延炉的吸盘装置,其特征在于,所述顶盘与所述底盘连接时,所述密封板抵触在所述凸台的顶面设置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造