[实用新型]一种分布式离子阱系统

权利要求书

1.一种分布式离子阱系统，其特征在于，包括：壳体，所述壳体为多边形的筒体，所述壳体的两端分别安装上盖板及安装板；所述壳体的内部安装离子阱，所述壳体安装有原子发生器；所述原子发生器产生原子进入所述离子阱囚禁，所述壳体的侧面设置若干激光视窗，所述激光视窗装配激光窗片。

2.如权利要求1所述的分布式离子阱系统，其特征在于，所述离子阱包括支架及若干刀片，所述刀片紧固安装在所述支架上并形成囚禁通道，信号源输入所述刀片形成囚禁电场，所述囚禁通道囚禁原子。

3.如权利要求2所述的分布式离子阱系统，其特征在于，所述支架具备底板，所述底板上设置有若干刀架，所述刀架上安装所述刀片；所述刀架上布置有若干电路，所述电路与所述刀片导通，所述信号源通过所述电路输入所述刀片。

4.如权利要求3所述的分布式离子阱系统，其特征在于，所述刀架形成有矩形通槽，所述通槽用于配合安装所述刀片。

5.如权利要求3所述的分布式离子阱系统，其特征在于，所述刀架上设置进阱孔，所述原子发生器的发射口正对所述进阱孔。

6.如权利要求3所述的分布式离子阱系统，其特征在于，所述信号源包括直流电信号及射频信号，所述壳体安装第一连接器及第二连接器，所述刀片分为第一刀片及第二刀片，所述第一连接器连接直流滤波板将所述直流电信号输入所述第一刀片，所述第二连接器连接射频谐振板将所述射频信号第二信号输入所述第二刀片。

7.如权利要求3所述的分布式离子阱系统，其特征在于，所述底板与所述刀架均采用陶瓷制造。

8.如权利要求1所述的分布式离子阱系统，其特征在于，所述安装板连接导热板，所述导热板接触冷源。

9.如权利要求1所述的分布式离子阱系统，其特征在于，所述上盖板设置物镜视窗，所述物镜视窗向所述安装板侧延伸形成凸台，所述物镜视窗装配物镜窗片。

10.如权利要求1所述的分布式离子阱系统，其特征在于，所述壳体、所述上盖板及所述安装板采用非磁性金属制造。