[实用新型]一种用于半导体蚀刻机的原料罐自动出料机构

说明书

本实用新型公开了一种用于半导体蚀刻机的原料罐自动出料机构，包括料罐，料罐的底部固定连通有耐腐料斗，耐腐料斗的底部固定连通有透明下料筒，耐腐料斗的背面的底部固定连接有支架，支架的底部固定连接有固定板，固定板的两侧均开设有卡槽，卡槽的中部卡接有吸附网框，耐腐料斗的内侧固定连接有防腐内垫，耐腐料斗的外侧固定连接有防腐胶膜，本实用新型一种用于半导体蚀刻机的原料罐自动出料机构，设置料罐、耐腐料斗、透明下料筒、固定板和吸附网框，减少气体扩散，进而减少工作车间空气的污染，保护人员身体健康，耐腐料斗以及透明下料筒抗腐蚀、耐腐蚀性能较好，减少下料位置的腐蚀损坏，延长下料机构的使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及蚀刻机领域，具体为一种用于半导体蚀刻机的原料罐自动出料机构。

背景技术

蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻机使用中通常会使用到蚀刻液，蚀刻液是通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。

现有的蚀刻液在使用中通常会采用原料罐进行储放，实际使用中，蚀刻液本身就具有一定的侵蚀性，大部分的蚀刻液含盐酸，盐酸是一种挥发性酸，使用中下料时蚀刻液挥发产生酸性气体，在车间工作容易对相关人员的身体造成危害，造成环境污染。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于半导体蚀刻机的原料罐自动出料机构，以解决上述背景技术中提出的现有的蚀刻液在使用中通常会采用原料罐进行储放，实际使用中，蚀刻液本身就具有一定的侵蚀性，大部分的蚀刻液含盐酸，盐酸是一种挥发性酸，使用中下料时蚀刻液挥发产生酸性气体，在车间工作容易对相关人员的身体造成危害，造成环境污染的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于半导体蚀刻机的原料罐自动出料机构，包括料罐，所述料罐的底部固定连通有耐腐料斗，所述耐腐料斗的底部固定连通有透明下料筒，所述透明下料筒的底部安装有防腐电磁阀，所述耐腐料斗的背面的底部固定连接有支架，所述支架的底部固定连接有固定板，所述固定板的两侧均开设有卡槽，所述卡槽的中部卡接有吸附网框，所述吸附网框的两侧均固定连接有塑胶卡垫，所述耐腐料斗的内侧固定连接有防腐内垫，所述耐腐料斗的外侧固定连接有防腐胶膜。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述防腐电磁阀的底部连通有出料端管，所述防腐电磁阀通过外接开关与外接电源电性连接，防腐电磁阀用于自动下料工作。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述吸附网框背面的中部铰接有网盖，所述吸附网框的内部填充有活性炭，活性炭吸收挥发的酸性气体。

作为本实用新型的一种优选技术方案，透明下料筒包括塑胶筒体、防腐树脂内膜、防腐树脂外膜和保护膜，且所述塑胶筒体的内侧固定连接有防腐树脂内膜，所述塑胶筒体的外侧固定连接有防腐树脂外膜，所述防腐树脂外膜的外侧固定连接有保护膜，保护膜处于外侧减少透明下料筒的磨损。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述吸附网框背面的顶部和吸附网框背面的底部均固定连接有拉把，拉把便于吸附网框的拆装工作。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述透明下料筒一侧的表面设有刻度，刻度能观察蚀刻液的残余量。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

设置料罐、耐腐料斗、透明下料筒、固定板和吸附网框，使用过程中，料罐内部储存的蚀刻液会挥发产生酸性气体飘浮在下料位置附近，耐腐料斗背面的固定板上卡接吸附网框内部填充活性炭，能够吸附空气中游离的一些酸性气体，减少气体扩散，进而减少工作车间空气的污染，保护相关工作人员的身体健康，此外耐腐料斗内外连接防腐内垫和防腐胶膜，透明下料筒的塑胶筒体的外侧有防腐树脂外膜，内侧有防腐树脂内膜，耐腐料斗以及透明下料筒抗腐蚀、耐腐蚀性能较好，能够减少下料位置的腐蚀损坏，延长下料机构的使用寿命，保证稳定出料供料。

附图说明