[实用新型]一种深紫外外延片有效
| 申请号： | 202123126915.1 | 申请日： | 2021-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN216849975U | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 解向荣;吴永胜;刘恒山;马野 | 申请（专利权）人： | 福建兆元光电有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/32 | 分类号： | H01L33/32;H01L33/12;H01L33/00 |
| 代理公司： | 福州市博深专利事务所(普通合伙) 35214 | 代理人： | 林振杰 |
| 地址： | 350109 福建省福州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 深紫 外延 | ||
1.一种深紫外外延片，其特征在于，包括在衬底上依次生长的氮化铝薄膜缓冲层、U型铝镓氮层、N型铝镓氮层、量子阱层和P型氮化镓层；
所述P型氮化镓包括依次生长的P型铝镓氮层、氮化铝层、P掺杂氮化镓层和重掺杂P型铝镓氮层。
2.根据权利要求1所述的一种深紫外外延片，其特征在于，所述P型铝镓氮层的厚度为20-40nm。
3.根据权利要求1所述的一种深紫外外延片，其特征在于，所述氮化铝层的厚度为5-30nm。
4.根据权利要求1所述的一种深紫外外延片，其特征在于，所述P掺杂氮化镓层的厚度为20-40nm。
5.根据权利要求1所述的一种深紫外外延片，其特征在于，所述重掺杂P型铝镓氮层的厚度为2-30nm。
6.根据权利要求1所述的一种深紫外外延片，其特征在于，所述氮化铝薄膜缓冲层的厚度为15-20nm。
7.根据权利要求1所述的一种深紫外外延片，其特征在于，所述U型铝镓氮层的厚度为1.5-2.5um。
8.根据权利要求1所述的一种深紫外外延片，其特征在于，所述U型铝镓氮层和所述N型铝镓氮层之间还包括高铝组分铝镓氮层；
所述高铝组分铝镓氮层的厚度为25-35nm，所述N型铝镓氮层的厚度为1.5-2.5um。
9.根据权利要求1所述的一种深紫外外延片，其特征在于，所述N型铝镓氮层和所述量子阱层之间还包括应力释放层；
所述应力释放层的厚度为70-90nm，所述量子阱层的厚度为110-130nm。
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