[实用新型]一种电化学水处理装置用排垢机构

权利要求书

1.一种电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：包括水箱(10)以及横向安装在水箱(10)下方并与水箱(10)相连通的排垢管道(20)，水箱(10)下方、排垢管道(20)上方均具有开口，水箱(10)以及排垢管道(20)在开口处固定连接并通过开口相连通；排垢管道(20)内部安装有螺旋输送件(30)，排垢管道(20)上设置有排垢口(21)；在水箱(10)的箱壁上设置有溢流口(11)，所述溢流口(11)位于排垢管道(20)的上方。

2.根据权利要求1所述的电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：所述水箱(10)底部具有从上至下口径渐缩的沉积斗(12)，沉积斗(12)的下方敞口形成所述水箱(10)的下方开口。

3.根据权利要求2所述的电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：所述沉积斗(12)由前壁(121)、后壁(122)及侧壁(123)围成，所述前壁(121)及后壁(122)倾斜设置，所述侧壁(123)竖直设置。

4.根据权利要求3所述的电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：所述溢流口(11)设置在所述沉积斗(12)的侧壁(123)上。

5.根据权利要求4所述的电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：所述排垢管道(20)与所述沉积斗(12)的侧壁(123)相垂直。

6.根据权利要求1所述的电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：所述螺旋输送件(30)由减速机(40)驱动。

7.根据权利要求1所述的电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：所述排垢口(21)位于排垢管道(20)的中部。

8.根据权利要求1所述的电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：所述水箱(10)的下方开口处具有上法兰盘(13)，所述排垢管道(20)的上方开口处具有与上法兰盘(13)相对应的下法兰盘(22)，通过上法兰盘(13)和下法兰盘(22)之间的固定连接将水箱(10)与排垢管道(20)固定连接。

9.根据权利要求1所述的电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：所述螺旋输送件(30)包括主轴(31)以及固定安装在主轴(31)上的叶片(32)。

10.根据权利要求9所述的电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：在排垢管道(20)的端部安装有用于架设所述主轴(31)的轴座(33)，所述主轴(31)与所述轴座(33)转动连接。