[实用新型]一种用于在光学膜上蚀刻图形的设备有效

专利信息
申请号: 202123156401.0 申请日: 2021-12-13
公开(公告)号: CN216357543U 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 黎智慧;孙勇;肖美鸣;邵飞;谷康城 申请(专利权)人: 人民百业科技有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00
代理公司: 北京中北知识产权代理有限公司 11253 代理人: 陈通
地址: 224000 江苏省盐城市盐南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 光学 蚀刻 图形 设备
【权利要求书】:

1.一种用于在光学膜上蚀刻图形的设备,其特征在于:包括底座(1),所述底座(1)上设有释放光学膜的放卷辊(22)和用于将光学膜收卷的收卷辊(15);

所述放卷辊(22)和所述收卷辊(15)之间设有用于托举光学膜的支撑板(16);

所述底座(1)上还设有固定板(20),且所述固定板(20)上设有用于托举所述支撑板(16)的托架(17);

所述托架(17)的底部通过设有的导向杆(19)与所述固定板(20)滑动连接,且所述导向杆(19)上还套装有弹簧(18);

所述导向杆(19)穿过所述固定板(20)后与设有的螺帽(21)螺纹配合;

所述托架(17)的内部为中空结构,用于承接和聚集经过支撑板(16)的蚀刻液。

2.根据权利要求1所述的一种用于在光学膜上蚀刻图形的设备,其特征在于:所述底座(1)上还设有支撑架(4),且所述支撑架(4)上设有第一空间(5)、第二空间(7)和第三空间(13);其中,所述第一空间(5)内设有喷头(6);所述第二空间(7)内设有排液管(8);所述第三空间(13)内设有进气管(11)。

3.根据权利要求2所述的一种用于在光学膜上蚀刻图形的设备,其特征在于:所述底座(1)上还设有支架(2),且所述支架(2)的一端与设有的内螺纹管(3)螺纹配合,所述内螺纹管(3)的另一端与所述支撑架(4)螺纹配合。

4.根据权利要求3所述的一种用于在光学膜上蚀刻图形的设备,其特征在于:所述排液管(8)上还设有固定架(9),并在所述固定架(9)上安装有与光学膜等宽的滚轮(10)。

5.根据权利要求3所述的一种用于在光学膜上蚀刻图形的设备,其特征在于:所述进气管(11)上还设有加热丝(12),通过所述进气管(11)将所述加热丝(12)产生的热量输送至所述第三空间(13)内。

6.根据权利要求5所述的一种用于在光学膜上蚀刻图形的设备,其特征在于:所述第三空间(13)远离所述进气管(11)的一面还设有挡板(14),且所述挡板(14)转动安装在所述第三空间(13)的侧面上。

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