[实用新型]液基制片设备

权利要求书

1.一种液基制片设备，其特征在于，包括：

承载模块，所述承载模块包括承载平台，所述承载平台上承载样本容器；

洗脱混匀模块，用以对所述样本容器中的样本进行洗脱混匀处理，以获得第一样本；

梯度分离模块，用以对所述第一样本进行梯度分离处理，以获得第二样本；

离心模块，用以对所述第二样本进行离心处理，以获得第三样本；

沉降染色模块，用以对所述第三样本进行沉降，获得第四样本，或者用以对所述第三样本进行沉降和染色，获得第五样本；

传送模块，用以分别取送所述样本容器、所述第一样本、所述第二样本、所述第三样本、所述第四样本、所述第五样本、玻片篮和载玻片；

控制模块，用以和所述承载模块、所述洗脱混匀模块、所述梯度分离模块、所述离心模块、所述沉降染色模块、所述传送模块电连接，以控制所述洗脱混匀模块、所述梯度分离模块、所述离心模块、所述沉降染色模块对样本依次进行处理。

2.如权利要求1所述的液基制片设备，其特征在于，所述液基制片设备还包括壳体，所述壳体围合形成容纳腔，所述承载平台设于所述容纳腔内，以将所述容纳腔分成上层空间和下层空间；

所述洗脱混匀模块、所述梯度分离模块、所述沉降染色模块均收容于所述上层空间；所述离心模块收容于所述下层空间；

所述传送模块在所述上层空间内或在所述上层空间和所述下层空间对样本或移液件进行取送。

3.如权利要求2所述的液基制片设备，其特征在于，所述承载平台设有第一通孔，所述第一通孔连通所述上层空间和所述下层空间，所述液基制片设备还包括设于所述下层空间的回收模块，所述第一通孔与所述回收模块的开口连通，所述回收模块用以通过所述第一通孔从所述上层空间回收所述移液件。

4.如权利要求3所述的液基制片设备，其特征在于，所述液基制片设备还包括拆分模块，所述拆分模块设于所述承载平台，所述传送模块包括吸头移取组件，所述移液件包括至少一种吸头；所述拆分模块分离所述吸头移取组件和所述吸头，所述回收模块通过所述第一通孔回收所述吸头。

5.如权利要求4所述的液基制片设备，其特征在于，所述拆分模块包括安装部、架主体以及限位分离部；所述安装部与所述承载平台可拆卸连接，所述架主体与所述安装部连接，所述限位分离部设于所述架主体远离所述安装部的一端。

6.如权利要求5所述的液基制片设备，其特征在于，所述限位分离部形成有限位槽，所述限位槽具有缺口，所述缺口设于所述限位槽的壁体，以供所述吸头移取组件将所述吸头移送至所述限位槽，并由所述壁体对所述吸头进行限位。

7.如权利要求1至6任一项所述的液基制片设备，其特征在于，所述液基制片设备还包括浸泡模块，所述浸泡模块将所述第四样本或所述第五样本进行浸泡处理，所述浸泡模块收容于所述上层空间。

8.如权利要求7所述的液基制片设备，其特征在于，所述浸泡模块包括第一浸泡机构和第二浸泡机构；所述第一浸泡机构用于盛装乙醇溶液，以用于浸泡所述第四样本或所述第五样本；所述第二浸泡机构用于盛装二甲苯溶液，以用于浸泡经所述第一浸泡机构浸泡的所述第五样本。

9.如权利要求8所述的液基制片设备，其特征在于，所述第一浸泡机构设有两个以上的第一浸泡槽，其中部分所述第一浸泡槽用于浸泡所述第四样本，其余所述第一浸泡槽用于浸泡所述第五样本。

10.如权利要求1至6任一项所述的液基制片设备，其特征在于，所述液基制片设备还包括液路模块和浸泡模块，所述液路模块包括管路、试剂存储组件和动力元件；所述动力元件用于驱动相应的试剂在所述管路中流动，以向所述梯度分离模块、所述离心模块、所述沉降染色模块以及所述浸泡模块中分别输送相应的试剂，或者用于将所述离心模块、所述沉降染色模块以及所述浸泡模块中的试剂抽出。