[实用新型]一种水带真空含浸设备

权利要求书

1.一种水带真空含浸设备，包括用于水带含浸的含浸桶(1)，其特征在于：所述的含浸桶(1)的内部侧壁上设有凹槽(8)，所述凹槽(8)沿含浸桶的上沿口向下竖直延伸至含浸桶(1)的底部，且在含浸桶(1)的底部横向延伸，形成“L”结构；

所述的凹槽(8)内设有含浸托盘放置架(10)，含浸托盘放置架(10)包括竖杆(102)和横杠(103)，横杠(103)上缠绕有弹簧(12)，在弹簧(12)的两端处设有挂钩(14)，在含浸桶(1)内同水平高度的挂钩(14)用于放置含浸托盘。

2.根据权利要求1所述的水带真空含浸设备，其特征在于：所述含浸桶(1)的内侧壁上的凹槽(8)对称分布，至少设置两组。

3.根据权利要求1所述的水带真空含浸设备，其特征在于：所述的含浸桶(1)的底部设有含浸槽，所述含浸槽连通存储槽(2)，且设有进液控制阀。

4.根据权利要求3所述的水带真空含浸设备，其特征在于：所述的存储槽(2)设有油缸进行控制，通过油缸控制含浸液的排放和回收。

5.根据权利要求1所述的水带真空含浸设备，其特征在于：所述的含浸桶设有上盖，所述的上盖与含浸桶上沿口密封连接，且上盖上连接有气管，所述的气管连接真空泵，在电控箱(4)的作用下控制含浸桶内进出气。

6.根据权利要求5所述的水带真空含浸设备，其特征在于：所述的气管为钢丝软管。