[实用新型]一种可充分搅拌的真空乳化均质机械搅拌装置有效
申请号: | 202123299273.5 | 申请日: | 2021-12-21 |
公开(公告)号: | CN216778663U | 公开(公告)日: | 2022-06-21 |
发明(设计)人: | 汪海珍 | 申请(专利权)人: | 温州华强流体设备有限公司 |
主分类号: | B01F33/70 | 分类号: | B01F33/70;B01F27/171;B01F27/13;B01F27/1125;B01F27/2121;B01F27/213 |
代理公司: | 温州瓯越专利代理有限公司 33211 | 代理人: | 王庭辉 |
地址: | 325000 浙江省温州市温州经济技术开发区沙城街道大昌路*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 充分 搅拌 真空 乳化 机械 装置 | ||
1.一种可充分搅拌的真空乳化均质机械搅拌装置,包括搅拌框及分布于搅拌框中部的转轴组件,所述转轴组件包括主轴及若干组第一搅拌叶片,若干组第一搅拌叶片对称分布于主轴两侧并沿主轴中心轴线方向依次间隔排布,所述搅拌框内周联动有若干组均匀分布于转轴组件两侧的第二搅拌叶片,所述第一搅拌叶片与第二搅拌叶片二者沿主轴中心轴线方向依次间隔有序排列,其特征在于:所述搅拌框底部且位于外侧设有块茄破碎机构,所述块茄破碎机构包括相互对称分布的破碎上圆板、破碎下圆板,所述主轴端部朝向搅拌框底部延伸直至与破碎上圆板中部联动,所述主轴与破碎上圆板之间设有承接支架,所述承接支架内部中空,所述承接支架内部设有升降电机,所述升降电机端部延伸出承接支架直至与破碎下圆板联动,所述承接支架与升降电机之间设有密封圈。
2.根据权利要求1所述的一种可充分搅拌的真空乳化均质机械搅拌装置,其特征在于:所述承接支架上部设有联动孔,所述联动孔内设有滚动轴承,所述主轴端部通过滚动轴承与承接支架联动。
3.根据权利要求1所述的一种可充分搅拌的真空乳化均质机械搅拌装置,其特征在于:所述承接支架上部设有联动孔,所述主轴端部延伸住联动孔内并通过焊接与承接支架相对固定连接。
4.根据权利要求1至3任一所述的一种可充分搅拌的真空乳化均质机械搅拌装置,其特征在于:所述破碎上圆板、破碎下圆板均设有若干组出料孔。
5.根据权利要求4所述的一种可充分搅拌的真空乳化均质机械搅拌装置,其特征在于:所述破碎上圆板、破碎下圆板二者表面设有材料为聚四氟乙烯的涂层。
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