[实用新型]一种改善粉源温场的坩埚结构有效
| 申请号： | 202123375217.5 | 申请日： | 2021-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN216688415U | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | 陈鹏磊;徐所成;王亚哲;姚秋鹏;皮孝东 | 申请（专利权）人： | 浙江大学杭州国际科创中心 |
| 主分类号： | C30B23/00 | 分类号： | C30B23/00;C30B29/36 |
| 代理公司： | 杭州裕阳联合专利代理有限公司 33289 | 代理人： | 高明翠 |
| 地址： | 311200 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 改善 粉源温场 坩埚 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种改善粉源温场的坩埚结构，其特征在于，包括坩埚本体与配件，所述坩埚本体内部具有粉源，所述配件为规则形状，所述配件用于插入粉源中心处，以增大粉源升华的表面积，所述配件的上端与粉源的上端平齐。
2.根据权利要求1所述的一种改善粉源温场的坩埚结构，其特征在于，所述配件的最大高度不大于所述粉源的高度，所述配件的最大宽度不大于所述坩埚本体的宽度。
3.根据权利要求1所述的一种改善粉源温场的坩埚结构，其特征在于，所述配件包括半圆形、立柱型或桶型。
4.根据权利要求1所述的一种改善粉源温场的坩埚结构，其特征在于，所述配件为半圆形。
5.根据权利要求3所述的一种改善粉源温场的坩埚结构，其特征在于，所述配件的内径为50-120mm，所述配件的厚度为5-20mm。
6.根据权利要求3所述的一种改善粉源温场的坩埚结构，其特征在于，所述配件的弧度与所述粉源内部的等温线相配。
7.根据权利要求1所述的一种改善粉源温场的坩埚结构，其特征在于，所述配件为立柱型或桶型，所述配件的内径为50-120mm，所述配件的厚度为5-20mm，高度为10-100mm。
8.根据权利要求1-6任一项所述的一种改善粉源温场的坩埚结构，其特征在于，所述配件的中轴线与所述坩埚本体的中轴线重合。
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