[实用新型]一种用于陶瓷砖生产的淋釉系统

说明书

本实用新型涉及陶瓷砖加工技术领域，具体为一种用于陶瓷砖生产的淋釉系统，包括机架；淋釉装置，其安装在所述机架上，所述淋釉装置用于流出用于加工陶瓷的淋釉釉幕；截釉装置，其包括挡釉槽和连杆，所述挡釉槽安装在所述连杆的一端，所述连杆的另一端可转动地安装在所述机架上，所述连杆相对所述机架转动时，所述挡釉槽可位于或远离所述淋釉装置流出的淋釉釉幕的正下方。设置有挡釉装置，实现了单条陶瓷产线中的中试和正常生产的快速切换，提高工作效率。

技术领域

本实用新型涉及陶瓷砖加工技术领域，具体为一种用于陶瓷砖生产的淋釉系统。

背景技术

在陶瓷砖的生产过程中，因为陶瓷砖生产线过于复杂和昂贵，因此大部分陶瓷砖生产企业都只有一条生产线，而在陶瓷砖生产过程中，又经常需要中试新的产品，只有一条生产线导致中试釉料、中试新产品、中试新工艺时非常麻烦，在中试喷釉工艺时，需要先把淋釉器洗干净、再搽干水，防止淋釉器有残余的水落下，再进行中试，非常损耗人力物力，中试频率效率都非常低，生产效率低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种用于陶瓷砖生产的淋釉系统，旨在解决现有技术陶瓷砖中试喷釉工艺时非常损耗人力物力，中试频率效率都非常低，生产效率低的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型提出一种用于陶瓷砖生产的淋釉系统，包括：

机架；

淋釉装置，其安装在所述机架上，所述淋釉装置用于流出用于加工陶瓷的淋釉釉幕；

截釉装置，其包括挡釉槽和连杆，所述挡釉槽安装在所述连杆的一端，所述连杆的另一端可转动地安装在所述机架上，所述连杆相对所述机架转动时，所述挡釉槽可位于或远离所述淋釉装置流出的淋釉釉幕的正下方。设置有挡釉装置，实现了单条陶瓷产线中的中试和正常生产过程中不同施釉工艺的快速切换，提高工作效率。

优选地，所述截釉装置还包括用于调节所述挡釉槽位置的挡釉槽调节组件。

优选地，所述挡釉槽调节组件包括连接座、连接件和定位件，所述连接座安装在所述机架上，所述连接件可滑动地安装在所述连接座上，所述定位件固定在所述连接件靠近所述连杆的一端，所述定位件与所述连杆抵接。结构简单，在连接件上安装定位件，增大连接件与连杆的接触面积，定位效果更好。

优选地，所述连接座包括连接部、第一安装支架和第二安装支架，所述第一安装支架和所述第二安装支架均安装在所述连接部的顶面，所述第一安装支架和所述第二安装支架分别固定安装在所述连杆与所述机架的连接处的两侧，所述连接件可滑动地安装在所述连接部上。第一安装支架和第二安装支架对连杆进行限位，防止连杆随意移动，确保挡釉槽不会发生位移。

优选地，所述连接件设有外螺纹，所述连接部上开设有连接孔，连接孔内设有内螺纹，所述外螺纹与内螺纹螺纹连接，使所述连接件可滑动地安装在所述连接部上。螺纹连接时一种简单常见的连接方式，结构简单、调节方便的优点。

优选地，还包括用于传送陶瓷砖的传送装置，所述传送装置位于所述截釉装置的正下方。传送装置用于传送待加工的陶瓷砖。

优选地，还包括集釉装置，所述集釉装置设置在所述传送装置的正下方、且位于所述淋釉装置流出的淋釉釉幕的正下方。用于收集从淋釉装置或从截釉装置流下的釉料。

优选地，所述挡釉槽的长度H1＞所述传送装置的宽度H2，所述挡釉槽的两端设有开口，所述开口位于所述集釉装置的正上方。避免淋釉釉幕淋到传送带上，对传送装置上的陶瓷砖造成污染。

优选地，所述淋釉装置包括料筒和淋釉器，所述料筒安装在所述机架上，所述淋釉器安装在所述机架上、且位于所述料筒的正下方，所述料筒下放的釉料沿所述淋釉器的边缘流出形成淋釉釉幕。

优选地，所述淋釉器的直径H3＞所述传送装置的宽度H2。确保淋釉釉幕可以完全覆盖着住传送装置传送的陶瓷砖，确保陶瓷砖得到完整的加工。