[实用新型]磁控溅射设备

说明书

本实用新型公开了一种磁控溅射设备，所述磁控溅射设备用于为薄膜镀膜，所述磁控溅射设备包括：放卷机构、收卷机构和镀膜单元，所述镀膜单元包括多个，多个所述镀膜单元沿所述薄膜的输送方向依次布置在所述放卷机构和所述收卷机构之间，所述镀膜单元包括：主辊和多个溅射源，多个所述溅射源在所述主辊的周向间隔设置并位于所述主辊与所述薄膜的包角范围内，且多个所述溅射源与所述主辊在所述主辊的径向方向间隔开。根据本实用新型的磁控溅射设备，通过设置多个镀膜单元，每个镀膜单元又包括一个主辊和多个溅射源，这样，能够减少镀膜时膜面的热量，提高单位设备空间的产能，提高镀膜沉积效率。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备领域，尤其是涉及一种磁控溅射设备。

背景技术

磁控溅射是真空镀膜的重要方法之一，其具有膜层厚度控制精度高，镀膜均匀性好等优点。近年来，随着柔性光电产品的市场需求不断扩大，尤其对复杂膜系结构产品，镀膜产品的需求成不断扩大趋势。

相关技术中指出，薄膜镀膜的磁控溅射设备多为单个主辊，根据单个主辊的冷却效果设置的靶材数量是有限的，无法满足产品要求，增加靶材的数量会导致镀膜时膜面的温度过高，造成薄膜的变形，影响产品的质量。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型在于提出一种磁控溅射设备，所述磁控溅射设备能够减少镀膜时膜面的热量，多个主辊能够提高主辊对膜面的冷却效果减少金属沉积时热量对膜面的影响，提高了单位设备空间的产能，提高镀膜沉积效率。

根据本实用新型的磁控溅射设备，所述磁控溅射设备用于为薄膜镀膜，所述磁控溅射设备包括：放卷机构和收卷机构；镀膜单元，所述镀膜单元包括多个，多个所述镀膜单元沿所述薄膜的输送方向依次布置在所述放卷机构和所述收卷机构之间，所述镀膜单元包括：主辊和多个溅射源，多个所述溅射源在所述主辊的周向间隔设置并位于所述主辊与所述薄膜的包角范围内，且多个所述溅射源与所述主辊在所述主辊的径向方向间隔开。

根据本实用新型的磁控溅射设备，通过设置多个镀膜单元，每个镀膜单元又包括一个主辊和多个溅射源，这样，能够减少镀膜时膜面的热量，多个主辊能够提高主辊对膜面的冷却效果减少金属沉积时热量对膜面的影响，提高了单位设备空间的产能，提高镀膜沉积效率。

在一些实施例中，所述多个所述镀膜单元中的多个所述主辊均沿顺时针方向转动或均沿逆时针方向转动。

在一些实施例中，在输送所述薄膜镀膜时，多个所述镀膜单元的多个所述主辊中的一部分沿顺时针方向转动且另一部分沿逆时针方向转动。

在一些实施例中，所述主辊沿顺时针方向转动的所述镀膜单元为第一镀膜单元，所述主辊沿逆时针方向转动的镀膜单元为第二镀膜单元，所述第一镀膜单元包括多个，所述第二镀膜单元包括多个。

在一些实施例中，多个所述第一镀膜单元布置在多个所述第二镀膜单元沿薄膜输送方向的上游或下游。

在一些实施例中，所述放卷机构和所述收卷机构在第一方向上间隔布置，多个所述第一镀膜单元在垂直于所述第一方向的第二方向上间隔布置，多个所述第二镀膜单元在所述第二方向上间隔设置，且多个所述第一镀膜单元和多个所述第二镀膜单元在所述第一方向上间隔布置。

在一些实施例中，所述镀膜单元还包括：第一过辊和第二过辊，所述第一过辊、所述主辊和所述第二过辊在所述薄膜的输送方向上依次布置，所述薄膜在所述主辊上的包角大于等于200°。

在一些实施例中，所述镀膜单元的数量在2-30范围。

在一些实施例中，所述主辊的直径在300mm到1200mm范围。

在一些实施例中，每个所述镀膜单元中的多个所述溅射源的数量为2-10。

在一些实施例中，所述溅射源为镀膜靶材，多个所述镀膜靶材在所述包角范围内均匀间隔设置。