[发明专利]防眩性硬涂薄膜、防眩性硬涂薄膜的制造方法、光学构件和图像显示装置在审
申请号: | 202180004606.0 | 申请日: | 2021-02-04 |
公开(公告)号: | CN114144702A | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
发明(设计)人: | 桥本尚树;中川大五郎;岛谷和宏;波多野良知;安藤豪彦;中田美惠 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B1/14 | 分类号: | G02B1/14;G02B5/02;G02B5/30;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防眩性硬涂 薄膜 制造 方法 光学 构件 图像 显示装置 | ||
1.一种防眩性硬涂薄膜,其特征在于,在透光性基材(A)上层叠有防眩性硬涂层(B),
所述防眩性硬涂层(B)由树脂层形成,在所述树脂层内部包含第1颗粒和第2颗粒,
所述第1颗粒与所述第2颗粒的质量的合计相对于形成所述树脂层的树脂的总质量为2~25质量%,
在所述防眩性硬涂薄膜中的所述防眩性硬涂层(B)侧的最表面形成有凹凸,
所述第1颗粒的重均粒径满足下述数学式(1),
所述第2颗粒的重均粒径满足下述数学式(2),
所述最表面的凹凸形状满足下述数学式(3)和(4),
3.0<d1≤8.5[μm] (1)
1.0≤d2≤3.0[μm] (2)
Ry:1.0≤Ry≤7.0[μm] (3)
θa:1.0≤θa≤7.5[°] (4)
所述数学式(1)中,d1为所述第1颗粒的重均粒径[μm],
所述数学式(2)中,d2为所述第2颗粒的重均粒径[μm],
所述数学式(3)中,Ry为所述凹凸的凸部的最大高度[μm],
所述数学式(4)中,θa为所述凹凸的平均倾斜角[°]。
2.根据权利要求1所述的防眩性硬涂薄膜,其中,所述第2颗粒的质量的合计相对于形成所述树脂层的树脂的总质量为1质量%以上。
3.根据权利要求1或2所述的防眩性硬涂薄膜,其中,在所述防眩性硬涂薄膜中,起因于所述凹凸的外部雾度值为5%以上。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的防眩性硬涂薄膜,其中,所述第1颗粒的质量的合计相对于所述第2颗粒的质量的合计为2/3以上。
5.一种权利要求1至4中任一项所述的防眩性硬涂薄膜的制造方法,其特征在于,其包括在所述透光性基材(A)上以满足所述数学式(1)~(4)的方式形成所述防眩性硬涂层(B)的防眩性硬涂层(B)形成工序,
所述防眩性硬涂层(B)形成工序包括:在所述透光性基材(A)上涂覆涂覆液的涂覆工序;和使所涂覆的所述涂覆液干燥而形成涂膜的涂膜形成工序,
所述涂覆液包含所述树脂、所述第1颗粒、所述第2颗粒和溶剂。
6.根据权利要求5所述的制造方法,其中,在所述涂覆工序中,以1000mm以上的宽度将所述涂覆液连续涂覆500m以上。
7.根据权利要求5或6所述的制造方法,其中,所述防眩性硬涂层(B)形成工序还包括使所述涂膜固化的固化工序。
8.一种光学构件,其包括权利要求1至4中任一项所述的防眩性硬涂薄膜。
9.根据权利要求8所述的光学构件,其为偏光板。
10.一种图像显示装置,其包括权利要求1至4中任一项所述的防眩性硬涂薄膜、或者权利要求8或9所述的光学构件。
11.根据权利要求10所述的图像显示装置,其为公共信息显示器。
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