[发明专利]研磨液、研磨液组及研磨方法

权利要求书

1.一种研磨液，其含有磨粒、选自由羟基酸及其盐组成的组中的至少一种羟基酸成分及化合物Z，

所述化合物Z具有可以被取代的烃基及聚氧亚烷基，

由下述通式(1)表示的Z值为20以上，

Z＝0.1×a²×b/c…(1)

式(1)中，a表示所述烃基的碳原子数，b表示所述化合物Z中的氧亚烷基的总数，c表示所述化合物Z的HLB值。

2.根据权利要求1所述的研磨液，其中，

所述磨粒的ζ电位为正。

3.根据权利要求1或2所述的研磨液，其中，

所述磨粒包含铈氧化物。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的研磨液，其中，

所述磨粒包含铈氢氧化物。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的研磨液，其中，

所述羟基酸成分中的羧基及羧酸盐基的总数为1。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的研磨液，其中，

所述羟基酸成分中的羟基数为1～2。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的研磨液，其中，

所述羟基酸成分中的羟基数为2以上。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的研磨液，其中，

所述化合物Z的HLB值为8.0以上。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的研磨液，其中，

所述化合物Z包含由下述通式(z1)表示的化合物，

式(z1)中，A¹表示亚烷基，R¹表示所述烃基，n1表示2以上的整数。

10.根据权利要求9所述的研磨液，其中，

由所述通式(z1)表示的化合物的所述烃基为具有多个芳香环的芳基。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的研磨液，其中，

所述化合物Z包含具有键合有所述烃基及所述聚氧亚烷基的氮原子的化合物。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的研磨液，其中，

所述化合物Z包含由下述通式(z2)表示的化合物，

式(z2)中，A²¹及A²²分别独立地表示亚烷基，R²表示所述烃基，n21及n22分别独立地表示2以上的整数。

13.根据权利要求12所述的研磨液，其中，

由所述通式(z2)表示的化合物的所述烃基为烷基。

14.一种研磨液组，其中，

权利要求1至13中任一项所述的研磨液的构成成分分为第1液与第2液来保存，所述第1液包含所述磨粒，所述第2液包含所述羟基酸成分及所述化合物Z。

15.一种研磨方法，其具备使用权利要求1至13中任一项所述的研磨液、或使用由权利要求14所述的研磨液组中的所述第1液与所述第2液混合而获得的研磨液对被研磨面进行研磨的研磨工序。

16.根据权利要求15所述的研磨方法，其中，

所述被研磨面包含氧化硅。

17.根据权利要求16所述的研磨方法，其中，

所述被研磨面进一步包含氮化硅。