[发明专利]分布器及包括该分布器的反应器在审
| 申请号： | 202180006380.8 | 申请日： | 2021-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN114650875A | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 李洪旻;黄文燮;宋宗勋;陆炅奭;宣玟浩;李政锡 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | B01J8/44 | 分类号： | B01J8/44 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 王伟;李琳 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 分布 包括 反应器 | ||
1.一种分布器，包括：
盘形的主体；以及
第一孔和第二孔，所述第一孔和所述第二孔设置在所述主体中并且具有彼此不同的尺寸，
其中，所述第二孔的直径小于所述第一孔的直径。
2.根据权利要求1所述的分布器，其中，所述第一孔在所述主体的中心沿所述主体的圆周以相等的间隔形成，并且所述第二孔形成在所述第一孔之间的区域中。
3.根据权利要求1所述的分布器，其中，所述第一孔的所述直径是1mm至150mm，所述第二孔的所述直径是1mm至100mm。
4.根据权利要求1所述的分布器，其中，所述第二孔的所述直径是所述第一孔的所述直径的1％至40％。
5.根据权利要求1所述的分布器，其中，所述第一孔的所述直径是所述主体的直径的1％至50％，所述第二孔的所述直径是所述主体的直径的0.1％至40％。
6.根据权利要求1所述的分布器，其中，所述第二孔包括沿所述第二孔的外周面向上形成的突起。
7.根据权利要求6所述的分布器，其中，所述突起的高度是所述主体的厚度的5％至40％。
8.根据权利要求6所述的分布器，其中，所述突起向上形成为具有恒定的直径。
9.一种反应器，包括：
单体供应管线，气态单体流被供应至所述单体供应管线；以及
如权利要求1所述的分布器，所述分布器用于分散通过所述单体供应管线供应的所述气态单体流。
10.根据权利要求9所述的反应器，还包括：喷射单元，所述喷射单元设置为从所述单体供应管线延伸。
11.根据权利要求9所述的反应器，其中，所述气态单体包括乙烯单体，并且所述反应器进行所述乙烯单体的低聚反应。
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