[发明专利]阻隔膜、及使用其的波长转换片、背光源和液晶显示装置有效
申请号: | 202180008188.2 | 申请日: | 2021-08-03 |
公开(公告)号: | CN114930203B | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | 中岛达司;原田龙太郎;坂本武士;田村修一;春木晓人;山西祥多;安井凉马 | 申请(专利权)人: | 大日本印刷株式会社 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G02F1/13357 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王博;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阻隔 使用 波长 转换 背光源 液晶 显示装置 | ||
1.一种波长转换片用的阻隔膜,其在透光性基材上依次具有无机氧化物层A、有机被覆层B、无机氧化物层C和有机被覆层D,
将所述透光性基材、所述无机氧化物层A、所述有机被覆层B、所述无机氧化物层C和所述有机被覆层D的折射率分别定义为n0、nA、nB、nC和nD,
将所述透光性基材、所述无机氧化物层A、所述有机被覆层B、所述无机氧化物层C和所述有机被覆层D的厚度分别定义为t0、tA、tB、tC和tD时,
nA和nC大于nB和nD,并且,
所述无机氧化物层A与所述有机被覆层B的界面的反射率大于所述透光性基材与所述无机氧化物层A的界面的反射率,
进而,下述式1所示的d1表示x±0.10的范围,其中,x为2~13的整数,
式1
d1=nB×tB/112.5nm+nD×tD/112.5nm。
2.如权利要求1所述的阻隔膜,其中,上述式1所示的d1表示x±0.10的范围,其中,x为3~13的奇数的整数。
3.如权利要求1所述的阻隔膜,其中,上述式1所示的d1表示x~x+0.10的范围,其中,x为3~13的奇数的整数。
4.如权利要求1所述的阻隔膜,其中,在所述有机被覆层D的与所述无机氧化物层C相反一侧具有底涂层E,
将所述底涂层E的折射率定义为nE、将所述底涂层E的厚度定义为tE时,
下述式2所示的d2表示y±0.10的范围,其中,y为4~27的整数,
式2
d2=nB×tB/112.5nm+nD×tD/112.5nm+nE×tE/112.5nm。
5.如权利要求4所述的阻隔膜,其中,上述式2所示的d2表示y±0.10的范围,其中,y为5~27的奇数的整数。
6.如权利要求4所述的阻隔膜,其中,上述式2所示的d2表示y~y+0.10的范围,其中,y为5~27的奇数的整数。
7.如权利要求4~6中任一项所述的阻隔膜,其中,nE/nD为0.95以上1.05以下。
8.如权利要求4~6中任一项所述的阻隔膜,其中,tE为70nm以上1000nm以下。
9.如权利要求1~6中任一项所述的阻隔膜,其中,tA和tC分别为6nm以上25nm以下。
10.如权利要求1~6中任一项所述的阻隔膜,其中,tB和tD分别为70nm以上480nm以下。
11.如权利要求1~6中任一项所述的阻隔膜,其中,t0为5μm以上。
12.如权利要求1~6中任一项所述的阻隔膜,其中,所述无机氧化物层A和所述无机氧化物层C包含氧化铝。
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