[发明专利]用于形成碱玻璃用剥离层的组合物及剥离层

权利要求书

1.用于形成碱玻璃用剥离层的组合物，其包含下述(A)～(E)成分，该组合物在碱玻璃基板上涂布后于300℃以下烧成的膜与有机系膜接触的情况下，具有0.2N/25mm以下的剥离力，

(A)包含由下述式(1)所表示的重复单元的聚脲，

(B)磺酸化合物或其盐，

(C)选自具有被羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂，

(D)包含由下述式(a1)所表示的重复单元、由下述式(b)所表示的重复单元和由下述式(c)所表示的重复单元的高分子添加剂：相对于100质量份(A)聚脲为3～100质量份，

(E)溶剂，

[化1]

式中，A¹、A²、A³、A⁴、A⁵和A⁶各自独立地为氢原子、甲基或乙基，

X¹为由下述式(1-1)、(1-2)、(1-3)或(1-4)所表示的基团，

[化2]

式中，R¹和R²各自独立地为氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数3～6的烯基、苄基或苯基，所述苯基可被选自碳原子数1～6的烷基、卤素原子、碳原子数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基和碳原子数1～6的烷硫基中的至少1种基团取代，另外，R¹和R²可相互键合并与它们所键合的碳原子一起形成碳原子数3～6的环，R³为碳原子数1～6的烷基、碳原子数3～6的烯基、苄基或苯基，所述苯基可被选自碳原子数1～6的烷基、卤素原子、碳原子数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基和碳原子数1～6的烷硫基中的至少1种基团取代，

Q¹为由下述式(1-5)或(1-6)所表示的基团，

[化3]

式中，X²为由式(1-1)、式(1-2)或式(1-4)所表示的基团，Q²为碳原子数1～10的亚烷基、亚苯基、亚萘基或亚蒽基，所述亚苯基、亚萘基和亚蒽基可被选自碳原子数1～6的烷基、卤素原子、碳原子数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基和碳原子数1～6的烷硫基中的至少1种基团取代，n¹和n²各自独立地为0或1，

[化4]

式中，R^A各自独立地为氢原子或甲基，R^B1为至少1个氢原子被氟原子取代的碳原子数3或4的支链状的烷基，R^C为碳原子数2～10的羟基烷基或具有1～4个羟基的碳原子数6～20的多环式烷基，R^D为碳原子数6～20的多环式烷基或碳原子数6～12的芳基。

2.根据权利要求1所述的用于形成碱玻璃用剥离层的组合物，其中，在(D)高分子添加剂的由式(b)所表示的重复单元中，R^C为碳原子数2～10的羟基烷基或具有1～4个羟基的碳原子数6～20的多环式烷基，其中羟基所键合的碳原子为仲碳或叔碳原子，且由式(a1)所表示的重复单元的含有比例为(D)高分子添加剂的全部重复单元中的20摩尔％以上且80摩尔％以下。

3.根据权利要求1或2所述的用于形成碱玻璃用剥离层的组合物，其中，X¹为由式(1-3)所表示的基团。

4.根据权利要求3所述的用于形成碱玻璃用剥离层的组合物，其中，R³为2-丙烯基。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的用于形成碱玻璃用剥离层的组合物，其中，Q¹为由式(1-5)所表示的基团。