[发明专利]氮化硼烧结体、复合体及它们的制造方法、以及散热构件在审
| 申请号： | 202180013551.X | 申请日： | 2021-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN115066406A | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 五十岚厚树;武田真;小桥圣治;西村浩二 | 申请（专利权）人： | 电化株式会社 |
| 主分类号： | C04B35/583 | 分类号： | C04B35/583;C04B38/00;C04B41/83;H01L23/373;H05K7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 牛蔚然 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氮化 烧结 复合体 它们 制造 方法 以及 散热 构件 | ||
1.氮化硼烧结体，其是包含氮化硼粒子和气孔的氮化硼烧结体，所述氮化硼烧结体是片状的且厚度小于2mm。
2.如权利要求1所述的氮化硼烧结体，其取向性指数为40以下。
3.如权利要求1或2所述的氮化硼烧结体，其气孔率为30～65体积％。
4.如权利要求1～3中任一项所述的氮化硼烧结体，其堆积密度为800～1500kg/m3。
5.如权利要求1～4中任一项所述的氮化硼烧结体，其中，所述气孔的平均细孔直径小于4.0μm。
6.如权利要求1～5中任一项所述的氮化硼烧结体，其不具有切断面。
7.复合体，其包含权利要求1～6中任一项所述的氮化硼烧结体、和填充于所述氮化硼烧结体的所述气孔的至少一部分中的树脂。
8.散热构件，其具有权利要求7所述的复合体。
9.复合体的制造方法，其具有使树脂组合物含浸于权利要求1～6中任一项所述的氮化硼烧结体的含浸工序，其中，所述复合体具有所述氮化硼烧结体、和填充于该氮化硼烧结体的所述气孔的至少一部分中的树脂。
10.氮化硼烧结体的制造方法，其具有进行包含碳氮化硼粉末和烧结助剂的配合物的成型及加热来得到包含氮化硼粒子和气孔的、片状的氮化硼烧结体的烧结工序，
其中，所述烧结工序中得到的氮化硼烧结体的厚度小于2mm。
11.氮化硼烧结体的制造方法，其具有在氮气氛下对碳化硼粉末进行烧成而得到包含碳氮化硼的烧成物的氮化工序，和
进行包含所述烧成物和烧结助剂的配合物的成型及加热来得到包含氮化硼粒子和气孔的、片状的氮化硼烧结体的烧结工序，
其中，所述烧结工序中得到的氮化硼烧结体的厚度小于2mm。
12.复合体的制造方法，其具有使树脂组合物含浸于通过权利要求10或11中记载的制造方法得到的氮化硼烧结体的含浸工序，其中，所述复合体具有所述氮化硼烧结体、和填充于该氮化硼烧结体的所述气孔的至少一部分中的树脂。
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