[发明专利]多孔质氧化铝和催化剂在审
申请号: | 202180013686.6 | 申请日: | 2021-02-18 |
公开(公告)号: | CN115066396A | 公开(公告)日: | 2022-09-16 |
发明(设计)人: | 长谷川章;门磨义浩;冈田治;本村加奈;小笠原静香;中村宽美;野野内保;松田薰 | 申请(专利权)人: | 株式会社新生能源研究;独立行政法人国立高等专门学校机构 |
主分类号: | C01F7/021 | 分类号: | C01F7/021;B01J23/78 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴克鹏 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 多孔 氧化铝 催化剂 | ||
1.一种多孔质氧化铝,其特征在于,是在氧化铝Al2O3中添加二氧化硅SiO2和氧化钡BaO而成的多孔质氧化铝,其中,以如下方式在所述氧化铝中分别添加有所述二氧化硅和所述氧化钡:
设所述SiO2添加量相对于所述氧化铝和SiO2添加量的合计质量的比例为SiO2添加率,单位为质量%,
设BaO添加量相对于所述氧化铝和所述SiO2添加量的合计质量的比例为BaO添加率,单位为质量%,
所述SiO2添加量,是将所述多孔质氧化铝中的硅Si的含量换算为SiO2含量的量,
所述BaO添加量,是将所述多孔质氧化铝中的钡Ba的含量换算为BaO含量的量,
在所述SiO2添加率为3质量%以下的范围内,所述BaO添加率为14质量%以下的范围内,
所述多孔质氧化铝在1200℃下、30小时的热处理后,以规定的测量方法测量的比表面积为基准比表面积以上,该基准比表面积,是对于所述多孔质氧化铝,将所述SiO2添加率设定为3质量%,将所述BaO添加率设定为0质量%而作为比较用的基准多孔质氧化铝,并对该基准多孔质氧化铝以同样方式测量出的比表面积。
2.根据权利要求1所述的多孔质氧化铝,其特征在于,在所述SiO2添加率为0.7质量%以上且3质量%以下的范围内,
以使所述多孔质氧化铝的所述比表面积为所述基准比表面积以上的方式,在所述氧化铝中分别添加有所述二氧化硅和所述氧化钡。
3.根据权利要求1或2所述的多孔质氧化铝,其特征在于,在所述BaO添加率为0.5质量%以上且14质量%以下的范围内,
以使所述多孔质氧化铝的所述比表面积为所述基准比表面积以上的方式,在所述氧化铝中分别添加有所述二氧化硅和所述氧化钡。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的多孔质氧化铝,其特征在于,
设所述SiO2添加率以质量%计为Xs,设所述BaO添加率以质量%计为Xb时,
0.7质量%≤Xs<1质量%,并且,5质量%≤Xb≤10质量%,或
1质量%≤Xs<2质量%,并且,3质量%≤Xb≤10质量%,或
2质量%≤Xs≤3质量%,并且,1质量%≤Xb≤14质量%。
5.一种多孔质氧化铝,其特征在于,是在氧化铝Al2O3中添加二氧化硅SiO2和氧化钡BaO而成的多孔质氧化铝,其中,
由所述SiO2添加量相对于所述氧化铝和SiO2添加量的合计质量的比例所规定的以质量%计的SiO2添加率设为Xs,其中,所述SiO2添加量,是将所述多孔质氧化铝中的硅Si的含量换算为SiO2含量的量,所述Xs的单位为质量%,
由BaO添加量相对于所述氧化铝和所述SiO2添加量的合计质量的比例所规定的以质量%计的BaO添加率设为Xb时,其中,所述BaO添加量,是将所述多孔质氧化铝中的钡Ba的含量换算为BaO含量的量,所述Xb的单位为质量%,
形成为:
0.7质量%≤Xs<1质量%,并且,5质量%≤Xb≤10质量%,或
1质量%≤Xs<2质量%,并且,3质量%≤Xb≤10质量%,或
2质量%≤Xs≤3质量%,并且,1质量%≤Xb≤14质量%。
6.根据权利要求4或5所述的多孔质氧化铝,其特征在于,形成为1质量%≤Xs≤3质量%,并且,3质量%≤Xb≤10质量%。
7.一种催化剂,其特征在于,具有权利要求1~6中任一项所述的多孔质氧化铝、和担载于所述多孔质氧化铝的催化剂物质而成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社新生能源研究;独立行政法人国立高等专门学校机构,未经株式会社新生能源研究;独立行政法人国立高等专门学校机构许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202180013686.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。