[发明专利]允许快速测量有限面积的光源的角发射图案的光学装置在审

专利信息
申请号: 202180016854.7 申请日: 2021-02-25
公开(公告)号: CN115151797A 公开(公告)日: 2022-10-04
发明(设计)人: 蒂埃里·勒鲁 申请(专利权)人: 埃尔迪姆公司
主分类号: G01J1/02 分类号: G01J1/02;G01J1/04;G01J1/42
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 高岩;杨林森
地址: 法国圣*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 允许 快速 测量 有限 面积 光源 发射 图案 光学 装置
【权利要求书】:

1.一种用于测量有限面积的光源的角发射图案的装置,其特征在于,所述装置沿其光轴相继包括:

-第一物镜,其被称为傅立叶物镜(2),所述第一物镜被布置成形成傅立叶表面(3),所述傅立叶表面的每个点对应于对象的观察方向,

-漫射表面(8),其用于透射,并且布置在所述傅立叶表面上,

-视频光度计(9),其位于所述漫射表面(8)的下游,并且被布置成对所述漫射表面成像。

2.根据前述权利要求所述的装置,包括光密度物质(12),所述光密度物质布置在所述漫射表面的上游,并且被布置成衰减朝向所述傅立叶物镜(2)和所述源反向散射的光。

3.根据权利要求1或2所述的装置,其中,所述傅立叶表面(3)的每个点对应于所述源的发射的角方向。

4.根据权利要求1或2所述的装置,其中,所述傅立叶表面(3)的每个点对应于由所述源发射并且沿观察的角方向会聚在位于距所述源固定距离的点处的所有光线。

5.根据前述权利要求中的一项所述的装置,其中,所述视频光度计(9)的光轴被定向成平行于所研究的源的法线。

6.根据前述权利要求中的一项所述的装置,其中,所述密度-漫射器对(8,12)由光密度物质形成,一侧经磨砂处理并且另一侧经过抗反射处理。

7.根据权利要求1至5中的一项所述的装置,其中,所述密度-漫射器对(8,12)由光密度物质形成,并且在一侧结合有漫射膜而另一侧经过抗反射处理。

8.一种用于测量有限面积的光源的角发射图案的方法,所述方法包括相继沿光轴相继放置以下部件:

·第一物镜,其被称为傅立叶物镜(2),所述第一物镜形成傅立叶表面(3),所述傅立叶表面的每个点对应于对象的观察方向,

·漫射表面(8),其用于透射,并且布置在所述傅立叶表面上,

·视频光度计(9),其位于所述漫射表面(8)的下游,并且被布置成对所述漫射表面成像。

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