[发明专利]用于抛光系统的维护方法及其相关物件

权利要求书

1.一种在抛光系统部件的表面上形成疏水涂层的方法，包括以下步骤：

清洁所述抛光系统部件的所述表面以从其移除抛光流体残留物；和

将导致疏水性的化学溶液施加到所述抛光系统部件的所述表面。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述抛光系统部件是基板载具组件的一部分，并且其中所述导致疏水性的化学溶液是使用喷涂工艺施加的。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述导致疏水性的化学溶液是使用疏水性施加器施加的，所述疏水性施加器包括：

施加器物件，由孔隙度为约60％或更大的开口发泡材料形成；和

导致疏水性的化学溶液。

4.如权利要求3所述的方法，其中所述施加器和所述导致疏水性的化学溶液被封装在密封容器中。

5.如权利要求4所述的方法，其中如在所述密封容器中设置的所述施加器物件浸渍有所述导致疏水性的化学溶液。

6.如权利要求4所述的方法，其中所述密封容器包括将所述施加器物件与所述导致疏水性的化学溶液分离的膜层，并且所述方法进一步包括以下步骤：破坏所述膜以将所述施加器物件用所述导致疏水性的化学溶液浸渍。

7.如权利要求3所述的方法，其中

所述抛光系统部件包括平台屏蔽件，

所述疏水性施加器耦接至抛光平台，并且

施加所述导致疏水性的溶液的步骤包括以下步骤：旋转所述抛光平台以抵靠所述平台屏蔽件的径向向内表面推动所述疏水性施加器。

8.如权利要求3所述的方法，其中

所述抛光系统部件设置在所述抛光系统的基板处理环境内，和

将所述导致疏水性的溶液施加到所述抛光系统部件的所述表面而不从所述基板处理环境移除所述抛光系统部件。

9.如权利要求8所述的方法，其中

所述抛光系统部件包括具有用于装配研磨垫调节盘的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面的调节器装配板，和

将所述导致疏水性的溶液施加到所述第二表面而不从垫调节器组件拆卸所述调节器装配板。

10.一种在抛光系统部件的表面上形成疏水涂层的方法，包括以下步骤：

清洁所述抛光系统部件的所述表面以从其移除抛光流体残留物；和

将导致疏水性的化学溶液施加到所述抛光系统部件的所述表面，其中所述抛光系统部件设置在所述抛光系统的基板处理环境内，并且其中将所述导致疏水性的溶液施加到所述抛光系统部件的所述表面而不从所述基板处理环境移除所述抛光系统部件。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述导致疏水性的化学溶液是使用疏水性施加器施加的，所述疏水性施加器包括：

施加器物件，由孔隙度为约60％或更大的开口发泡材料形成；和

所述导致疏水性的化学溶液。

12.一种疏水性施加器，包括：

施加器物件，由孔隙度为约60％或更大的开口发泡材料形成；和

导致疏水性的化学溶液，其中所述施加器和所述导致疏水性的化学溶液被封装在密封容器中。

13.如权利要求12所述的疏水性施加器，其中如在所述密封容器中设置的所述施加器物件浸渍有所述导致疏水性的化学溶液。

14.如权利要求12所述的疏水性施加器，其中所述密封容器包括将所述施加器物件与所述导致疏水性的化学溶液分离的膜层。

15.如权利要求12所述的疏水性施加器，其中在所述密封容器内的所述导致疏水性的化学溶液的以重量计的量为约0.9X或小于完全饱和所述施加器物件会需要的以重量计的量。