[发明专利]用于处理工件的处理设施和处理方法

权利要求书

1.一种用于处理工件(12)的处理设施，所述处理尤其是指干燥，所述工件尤其是指车身(14)，所述处理设施具有

a)处理舱(16)，所述处理舱具有壳体(18)和位于所述壳体(18)中的处理空间(20)；

b)输送系统(34)，借助所述输送系统能够将所述工件(12)沿输送路线(S)并在输送方向(R)上输送进入到所述处理空间(20)中和/或输送穿过所述处理空间，使得工件(12)的主轴线(A_H)沿所述输送路线(S)的至少一个横向输送部段(S_Q)横向于所述输送方向(R)伸展；

c)气体系统(58)，借助所述气体系统能够在所述处理空间(20)中产生气体流(64)，并且所述气体系统包括用于使气体进入到所述处理空间中的多个进入开口(60)和用于使气体从所述处理空间(20)离开的多个离开开口(62)；

其特征在于，进入开口(60)和离开开口(62)在横向输送部段(S_Q)中如下设置：

d)在工件(12)的垂直于所述输送方向(R)的同一侧(66)上；

和/或

e)仅在所述处理空间(20)的平行于所述输送方向(R)延伸的两个相邻的空间象限(68)中，所述两个相邻的空间象限由竖直平面(72)、水平平面(74)和所述壳体(18)的壳体部段(76a)限定；

和/或

f)在所述处理空间(20)的同一空间象限(70)中，所述同一空间象限由第一对角平面(86)、第二对角平面(88)和所述壳体(18)的壳体部段(76b)限定，其中所述第一对角平面(86)和所述第二对角平面(88)平行于所述输送方向(R)伸展。

2.根据权利要求1所述的处理舱，其特征在于，所述水平平面(74)和所述竖直平面(72)分别伸展穿过几何的工件辅助方体(78)的中心点(M)，其中两个相对的侧面(80)垂直于所述输送方向(R)伸展，并且其中每个侧面(80)分别以相切的方式接触工件(12)的最外点(82)。

3.根据权利要求1或2所述的处理设施，其特征在于，所述气体系统(58)具有分配装置(98)，利用所述分配装置能够沿着和/或横向于所述输送路线(S)将气体分配到所述处理空间(20)的多个特定的区域中。

4.根据权利要求3所述的处理设施，其特征在于，所述分配装置(98)具有设置在所述处理空间(20)中的至少一个气体通道(100)，所述气体流(64)能够在进入到所述处理空间(20)中之前被引导通过所述至少一个气体通道。

5.根据权利要求3或4所述的处理设施，其特征在于，所述分配装置(98)具有至少一个分配部段(102)，所述气体系统(58)的至少一些进入开口(60)构成在所述至少一个分配部段处，所述至少一个分配部段平行于对角平面(86、88)中的一个，尤其是在同一对角平面中伸展或者接触同一对角平面。

6.根据前述权利要求之一所述的处理设施，其特征在于，存在具有至少一个流偏转装置(106)的流偏转系统(104)，所述至少一个流偏转装置被设置成使得其在所述处理空间(20)中偏转至少一个子气体流(64)。

7.根据权利要求6所述的处理设施，其特征在于，流偏转装置(106)包括

a)一个或更多个被动的流引导元件(112)；和/或

b)一个或更多个通风装置(108)。

8.根据权利要求6或7所述的处理设施，其特征在于，流偏转装置(106)的位置和/或定向、尤其是一个或更多个流引导元件(112)和/或一个或更多个通风装置(108)的位置和/或定向以及/或者由流引导元件(112)预设的流偏转方向能够适配各工件(12)沿所述输送路线(S)的位置和/或定向和/或几何形状。

9.根据引用权利要求2的权利要求8所述的处理设施，其特征在于，各工件(12)沿所述输送路线(S)的位置对应于相应的工件辅助方体(78)的中心点(M)的位置。