[发明专利]细胞培养基质、其方法及用途在审
申请号: | 202180024552.4 | 申请日: | 2021-12-30 |
公开(公告)号: | CN115413296A | 公开(公告)日: | 2022-11-29 |
发明(设计)人: | 张瑛芝 | 申请(专利权)人: | 刘扶东 |
主分类号: | C12N5/00 | 分类号: | C12N5/00;C08J7/12;C09D177/04;G01N33/50 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 林彦 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 细胞培养 基质 方法 用途 | ||
1.一种用于细胞培养的基质,所述基质包含具有表面涂层的弹性体膜,所述表面涂层包含:
a)吸收性聚合物,其中所述吸收性聚合物沉积于所述弹性体膜的表面上,及
b)聚电解质多层,其中所述吸收性聚合物与这些聚电解质多层的聚阳离子或聚阴离子直接接触,
其中所述弹性体为聚二甲基硅氧烷(PDMS)。
2.如权利要求1的基质,其中所述吸收性聚合物是选自由以下组成的群:聚(乙烯醇)(PVA)、聚(乙二醇)(PEG)、PEG-丙烯酸酯、聚乙烯吡咯啶酮(PVP)、聚乙烯亚胺(PEI)、聚-L-丙交酯(PLLA)、聚-D-丙交酯(PDLA)、聚(L-丙交酯-共-D,L-丙交酯)(PLDLLA)、聚(乙醇酸)(PGA)、聚(乳酸-共-乙醇酸)(PL-co-GA)、聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)、聚(甲基丙烯酸羟乙酯)(p-HEMA)及其衍生物。
3.如权利要求2的基质,其中所述吸收性聚合物为PVA、PEG、PEG-丙烯酸酯、PVP、PEI、PMMA或其衍生物。
4.如权利要求2的基质,其中所述吸收性聚合物为PVA、PEG或PEG-丙烯酸酯。
5.如权利要求1的基质,其中所述吸收性聚合物结合至PDMS。
6.如权利要求1的基质,其中所述吸收性聚合物及所述PDMS未结合。
7.如权利要求1的基质,其中所述聚阳离子为聚(氨基酸)。
8.如权利要求1的基质,其中所述聚阴离子为聚(氨基酸)。
9.如权利要求1的基质,其中所述聚阳离子是选自由以下组成的群:聚(L-离胺酸)(PLL)、聚(L-精胺酸)(PLA)、聚(L-鸟胺酸)(PLO)、聚(L-组胺酸)(PLH)及其组合。
10.如权利要求9的基质,其中所述聚阳离子为PLL、PLA、PLO或PLH。
11.如权利要求1的基质,其中所述聚阴离子为聚(L-麸胺酸)(PLGA)、聚(L-天冬胺酸)(PLAA)或其组合。
12.如权利要求1的基质,其中(聚阳离子/聚阴离子)的双层是选自由以下组成的群:PLL/PLGA、PLL/PLAA、PLA/PLGA、PLA/PLAA、PLO/PLGA、PLO/PLAA、PLH/PLGA、PLH/PLAA及其组合。
13.如权利要求1的基质,其中这些聚电解质多层是经由逐层组装而形成。
14.如权利要求1的基质,其中这些聚电解质多层包含n个双层,其中n为1至30范围内的整数,且其中最外层为聚阳离子或聚阴离子。
15.如权利要求1的基质,其中这些聚电解质多层包含n个(聚阳离子/聚阴离子)的双层及附加聚阴离子层,其中n为1至30范围内的整数,且其中最外层为聚阴离子。
16.如权利要求1的基质,其中这些聚电解质多层包含n个(聚阴离子/聚阳离子)的双层及附加聚阳离子层,其中n为1至30范围内的整数,且其中最外层为聚阳离子。
17.如权利要求1的基质,其中所述基质是通过包含以下步骤的方法制备:
a)提供具有疏水性表面的PDMS,
b)通过处理改质PDMS的所述疏水性表面,
c)将吸收性聚合物施加至所述PDMS的经改质表面,及
d)在所述吸收性聚合物上依次沉积聚阳离子及聚阴离子的交替层,以形成呈多层膜形式的基质。
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