[发明专利]具有涂层感测区的光罩盒

说明书

使用干式涂布方法在光罩容器的内盒上产生感测区。所述感测区是具有特定光谱反射率的离散区。所述感测区经定位使得其可通过工具读取以确定所述盒的部分的距离。与用材料完全镀覆的内盒或其它湿式涂布施覆的材料相比，使用离散区及干式涂布方法用于施覆所述离散区会克服清洁或维持所述光罩容器的内盒的反射比时的不一致性及困难的问题。

相关申请案的交叉引用

本申请案主张2020年4月17日申请的第63/011,581号美国临时申请案的利益及优先权，所述申请案的全部内容出于所有目的以引用的方式并入本文中。

技术领域

本公开涉及光罩盒，特定来说，光罩盒(例如极紫外线(EUV)光罩盒)上的感测区的形成。

背景技术

光罩盒用于装纳在半导体处理期间(例如在极紫外线(EUV)处置期间)使用的光刻掩模。光罩盒可包含在处理期间由一或多个工具处置及操纵的金属内盒。一些工具可使用反射比来确定内盒与工具内的一或多个传感器的距离。通常使用去离子(DI)水来清洁光罩盒，这可导致一些材料的氧化。

光罩盒的内盒可用铬湿式涂布，以改进反射比及外观，且抵抗因由DI水清洁引起的氧化所致的反射比损失。然而，光罩盒的形状引起湿式涂布的困难。

发明内容

本公开涉及光罩盒，特定来说光罩盒(例如极紫外线(EUV)光罩盒)上的感测区的形成。

通过使用干式涂布工艺将反射涂层选择性地施覆到所述光罩盒上的离散感测区，可提供反射材料以与工艺工具上的传感器介接，而无需对整个光罩盒进行湿式涂布。另外，可提供所述反射涂层使得其具有所要厚度及强度。

在实施例中，一种盒包含具有底板表面的底板。所述底板表面包含底板表面材料及反射材料。所述底板表面的所述反射材料安置于一或多个离散底板感测区中。所述盒还包含具有盖表面的盖。所述盖表面包含盖表面材料及所述反射材料。所述盖表面的所述反射材料安置于一或多个盖感测区中。

在实施例中，所述盒是EUV光罩盒。在实施例中，所述盒进一步包含外盒圆顶及外盒门，所述盒圆顶及所述盒门经配置以在所述门附接到所述盒圆顶时将所述底板及所述盖容纳于所述盒圆顶内。

在实施例中，所述反射材料在880nm的波长下具有在大约50％与大约70％之间的光谱反射率。在实施例中，所述反射材料包含铬。在实施例中，仅所述反射材料包含所述铬。

在实施例中，所述一或多个底板感测区及所述一或多个盖感测区经定位使得可从读取所述一或多个底板感测区及所述一或多个盖感测区确定所述盒与检测器之间的距离。

在实施例中，所述底板表面包含铝或镍中的一者且所述盖表面是铝或镍中的一者。

在实施例中，一种生产光罩盒的方法包含：使用干式涂布工艺将反射材料施覆到所述光罩盒的底板的一或多个离散底板感测区中的每一者；以及使用所述干式涂布工艺将所述反射材料施覆到所述光罩盒的盖的一或多个离散盖感测区中的每一者。

在实施例中，所述反射材料在880nm的波长下具有在大约50％与大约70％之间的光谱反射率。

在实施例中，所述干式涂布工艺是选自由以下组成的群组：物理气相沉积、溅镀沉积、化学气相沉积及等离子体增强化学气相沉积。

在实施例中，所述一或多个底板感测区及所述一或多个盖感测区经定位使得可从读取所述一或多个底板感测区及所述一或多个盖感测区确定所述盒与检测器之间的距离。

附图说明

可结合附图考虑各种阐释性实施例的以下描述而完整地理解本公开。

图1A展示根据实施例的光罩盒的底板的底部平面图。

图1B展示根据实施例的光罩盒的盖的底部平面图。