[发明专利]具有全晶片激光加热的外延腔室

权利要求书

1.一种用于基板处理的腔室，包含：

腔室主体；

气体进口，所述气体进口穿过所述腔室主体的侧壁而设置；

气体出口，所述气体出口穿过所述腔室主体的侧壁并且与所述气体进口相对地设置；

上窗；

下窗；和

上部加热装置，所述上部加热装置进一步包含：

上冷却板；

一个或多个上基座构件，所述一个或多个上基座构件设置在所述上冷却板上；

一个或多个上光源；

一根或多根光纤，所述一根或多根光纤在第一端处连接至所述一个或多个上光源，并且在第二端处连接至所述上基座构件；和

照射窗，所述照射窗设置在所述上基座构件内并且在所述一根或多根光纤与所述上窗之间。

2.如权利要求1所述的腔室，进一步包含下部加热装置，所述下部加热装置包含：

下冷却板；

一个或多个下基座构件，所述一个或多个下基座构件设置在所述下冷却板上；

一个或多个下光源；

一根或多根光纤，所述一根或多根光纤在第一端处连接至所述一个或多个下光源，并且在第二端处连接至所述下基座构件；和

照射窗，所述照射窗设置在所述下基座构件内并且在所述一根或多根光纤与所述下窗之间。

3.如权利要求1所述的腔室，其中所述一个或多个上光源包含十个或更多个光源。

4.如权利要求1所述的腔室，其中所述照射窗进一步包括透镜，所述透镜用于将由所述一根或多根光纤发射的激光束发散成圆锥形束。

5.如权利要求1所述的腔室，其中所述上冷却板包括设置在所述上冷却板中的一个或多个冷却剂通道。

6.如权利要求1所述的腔室，其中所述上窗是石英窗。

7.如权利要求6所述的腔室，其中所述石英窗是反射石英窗，所述反射石英窗具有穿过所述反射石英窗设置的一个或多个窗开口。

8.如权利要求6所述的腔室，其中所述上窗是圆顶形窗。

9.如权利要求1所述的腔室，其中所述上冷却板进一步包含穿过所述上冷却板设置的一个或多个开口。

10.如权利要求9所述的腔室，其中所述一个或多个开口具有圆锥平截头体形状。

11.一种用于基板处理的腔室，包含：

腔室主体；

气体进口，所述气体进口穿过所述腔室主体的侧壁设置；

气体出口，所述气体出口穿过所述腔室主体的侧壁并且与所述气体进口相对地设置；

上窗；

下窗；

上部加热装置，所述上部加热装置进一步包含：

上冷却板，所述上冷却板具有穿过所述上冷却板设置的一个或多个开口；

一个或多个上基座构件，所述一个或多个上基座构件设置在所述上冷却板上；

一个或多个上光源；

一根或多根光纤，所述一根或多根光纤连接至所述一个或多个上光源和所述上基座构件；和

照射窗，所述照射窗设置在所述上基座构件内并且在所述一根或多根光纤与所述上窗之间；和

下部加热装置。

12.如权利要求11所述的腔室，其中所述上窗是上石英圆顶，且所述下窗是下石英圆顶。

13.如权利要求11所述的腔室，其中所述上窗是上反射石英衬垫，且所述下窗是下反射石英衬垫。

14.如权利要求13所述的腔室，进一步包含设置在所述腔室主体的内表面上的不透明石英主体衬垫。