[发明专利]具有顶置式屏蔽件的用于操纵基片的工具及相关操纵方法和外延反应器

权利要求书

1.一种用于操纵基片(3000)的工具(4000)，包括叉(4100)；

其中所述叉(4100)包括两个臂(4120、4140)，所述两个臂(4120、4140)配置为在使用时通过接触施加横向力和/或竖直力来直接或间接地夹持或支撑一个或更多个基片(3000)；

其特征在于，所述用于操纵基片的工具包括屏蔽件(4500)，所述屏蔽件固定或能够固定到所述叉(4100)，以便在使用中，当所述一个或更多个基片被所述叉(4100)夹持或支撑时，所述屏蔽件(4500)以一定距离悬垂在所述一个或更多个基片(3000)上。

2.根据权利要求1所述的用于操纵基片(3000)的工具(4000)，其中，所述屏蔽件(4500)包括板状件(4510)，特别是平的板状件。

3.根据权利要求2所述的用于操纵基片(3000)的工具(4000)，其中，在使用中，当所述一个或更多个基片(3000)被所述叉(4100)夹持或支撑并处于水平位置时，所述板状件(4510)适于处于水平位置。

4.根据前述权利要求1至3中任一项所述的用于操纵基片(3000)的工具(4000)，其中，所述屏蔽件(4500)适于存储热。

5.根据前述权利要求1至4中任一项所述的用于操纵基片(3000)的工具(4000)，其中，所述屏蔽件(4500)适于屏蔽红外辐射。

6.根据前述权利要求1至5中任一项所述的用于操纵基片(3000)的工具(4000)，其中，所述屏蔽件(4500)由石墨制成。

7.根据前述权利要求1至6中任一项所述的用于操纵基片(3000)的工具(4000)，其中，所述叉(4100)配置成在使用时通过接触向基片支撑元件(2000)施加横向力和/或竖直力来直接夹持或支撑所述基片支撑元件(2000)。

8.根据前述权利要求1至7中任一项所述的用于操纵基片(3000)的工具(4000)，其中，所述屏蔽件(4500)固定或能够固定到所述叉(4100)，特别是固定或能够固定到所述叉(4100)的所述两个臂(4120、4140)。

9.根据前述权利要求1至8中任一项所述的用于操纵基片(3000)的工具(4000)，其中，所述叉(4100)由石英制成。

10.一种外延反应器(1000)，包括根据前述权利要求1至9中任一项所述的用于操纵基片(3000)的工具(4000)。

11.根据权利要求10所述的外延反应器(1000)，所述外延反应器(1000)包括反应室(100)，其中所述工具(4000)适于用于将基片(3000)引入所述反应室(100)和/或从所述反应室(100)取出基片(3000)。

12.根据权利要求10或11所述的外延反应器(1000)，所述外延反应器(1000)包括基片定位站(210、220、300)，其中所述工具(4000)适于用于将基片(3000)从所述定位站(210、220、300)带出和/或带到所述定位站(210、220、300)，并且其中，所述定位站(300)是装载-锁定室(300)或冷却站(210)或加热站(220)。

13.根据权利要求10或11或13所述的外延反应器(1000)，所述外延反应器(1000)适于操纵放置在基片支撑元件(2000)上的基片(3000)。