[发明专利]光学装置在审
申请号: | 202180038108.8 | 申请日: | 2021-06-18 |
公开(公告)号: | CN115769022A | 公开(公告)日: | 2023-03-07 |
发明(设计)人: | J·佐伊纳;C·格里安提;F·佩莱加塔;I·佩特修斯;R·奥赛莱米 | 申请(专利权)人: | 维特拉布股份有限公司;国家研究委员会 |
主分类号: | F21V8/00 | 分类号: | F21V8/00;G02B6/122;G02B6/125 |
代理公司: | 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 | 代理人: | 郝文博;崔雁 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 装置 | ||
1.光学装置(1),包括:
初级扇出波导(3);
至少一个次级扇出波导(4);
扇出光耦合器(5),用于在所述初级扇出波导(3)和所述次级扇出波导(4)之间耦合光束;和
至少一个总线波导(6),与所述至少一个次级扇出波导(4)相关联并且不同于每个次级扇出波导(4);
其特征在于
反射和耦合结构(7),其连接所述次级扇出波导(4)和所述总线波导(6)。
2.根据权利要求1所述的光学装置(1),其特征在于,所述反射和耦合结构(7)是干涉式结构(8),用于将在所述次级扇出波导(4)中传播的光束耦合到所述总线波导(6)中或将在所述总线波导(6)中传播的光束耦合到所述次级扇出波导(4)中,使得耦合光束的至少一部分在离开所述干涉式结构(8)后沿相反方向传播。
3.根据权利要求1或2所述的光学装置(1),其特征在于,所述总线波导(6)的至少一部分与所述次级扇出波导(4)的至少一部分并排延伸,特别是基本上平行于所述次级扇出波导(4)的一部分。
4.根据前述权利要求中任一项所述的光学装置(1),其特征在于,所述反射和耦合结构(7)包括用于在所述次级扇出波导(4)与所述总线波导(6)之间耦合光束的光耦合器(9),其中可选地基本上50%的光束在沿一个方向通过所述光耦合器(9)时耦合在所述次级扇出波导(4)和所述总线波导(6)之间。
5.根据前述权利要求中任一项所述的光学装置(1),其特征在于,所述反射和耦合结构(7)包括用于至少部分地反射所述总线波导(6)中的光束的总线反射面(10)和用于至少部分地反射所述次级扇出波导(4)中的光束的次级扇出反射面(11)。
6.根据权利要求4和5所述的光学装置(1),其特征在于,所述反射和耦合结构(7)的光耦合器(9)与所述总线反射面(10)之间的光路长度与所述反射和耦合结构(7)的所述光耦合器(9)与所述次级扇出反射面(11)之间的光路长度相同。
7.根据前述权利要求中任一项所述的光学装置(1),其特征在于,所述次级扇出波导(4)和所述总线波导(6)设置在透明基板(12)中,可选地,所述次级扇出波导(4)和所述总线波导(6)由飞秒激光直写产生。
8.根据权利要求5和7所述的光学装置(1),其特征在于,所述总线反射面(10)和/或所述次级扇出反射面(11)由所述透明基板(12)的小面(13)和/或所述透明基板(12)的小面(13)的涂层提供。
9.根据前述权利要求中任一项所述的光学装置(1),其特征在于至少一个像素波导(14),其接收来自所述至少一个总线波导(6)的光束或将光束引导至所述至少一个总线波导(6),并且其特征在于,所述像素波导(14)远离所述总线波导(6)弯曲。
10.根据前述权利要求中任一项所述的光学装置(1),其特征在于相位调节元件,其用于调节所述反射和耦合结构(7)中的所述次级扇出波导(4)和所述总线波导(6)的相对光路长度,其中,所述相位调节元件可选地包括移相器和/或压电镜。
11.根据前述权利要求中任一项所述的光学装置(1),其特征在于,至少另外的总线波导与所述次级扇出波导(4)相关联并且不同于每个次级扇出波导(4),其中所述反射和耦合结构(7)还连接所述次级扇出波导(4)和所述另外的总线波导。
12.根据权利要求11所述的光学装置(1),其特征在于,所述反射和耦合结构(7)包括用于在所述次级扇出波导(4)、所述总线波导(6)和所述另外的总线波导之间耦合光束的三分器。
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