[发明专利]光处理装置在审
| 申请号： | 202180042419.1 | 申请日： | 2021-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN115720526A | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | J·维尔希姆 | 申请（专利权）人： | J·维尔希姆 |
| 主分类号： | A61N5/06 | 分类号： | A61N5/06 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 黄艳 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
1.一种光处理装置，包括：壳体，具有与所述壳体一体的透明或半透明的头板；面板，具有一个或多个光源，其中，所述面板固定在所述壳体内在所述透明或半透明头板的后面，由此所述一个或多个光源照射通过所述头板；以及敷抹器盘，在所述头板上方能附连到所述装置，其中，所述敷抹器盘包括一个或多个透明或半透明部分的底座，由此所述一个或多个光源照射通过所述头板和所述敷抹器盘的所述底座。
2.根据权利要求1所述的光处理装置，其中，所述敷抹器盘操作性地联接到固定在所述壳体内的马达，由此所述敷抹器盘在所述一个或多个光源保持固定的情况下能操作地旋转。
3.根据权利要求1所述的光处理装置，其中，所述装置通过所述头板和所述敷抹器盘能操作地分配成分。
4.根据权利要求2所述的光处理装置，其中，所述装置通过所述头板和所述敷抹器盘能操作地分配成分。
5.根据权利要求1所述的光处理装置，进一步包括盘盖，能附连到所述敷抹器盘，其中，所述盘盖包括一个或多个透明或半透明部分的底座，由此所述一个或多个光源照射通过所述头板、所述敷抹器盘的所述底座和所述盘盖。
6.根据权利要求2所述的光处理装置，进一步包括盘盖，能附连到所述敷抹器盘，其中，所述盘盖包括一个或多个透明或半透明部分的底座，由此所述一个或多个光源照射通过所述头板、所述敷抹器盘的所述底座和所述盘盖。
7.根据权利要求3所述的光处理装置，进一步包括盘盖，能附连到所述敷抹器盘，其中，所述盘盖包括一个或多个透明或半透明部分的底座，由此所述一个或多个光源照射通过所述头板、所述敷抹器盘的所述底座和所述盘盖。
8.根据权利要求4所述的光处理装置，进一步包括盘盖，能附连到所述敷抹器盘，其中，所述盘盖包括一个或多个透明或半透明部分的底座，由此所述一个或多个光源照射通过所述头板、所述敷抹器盘的所述底座和所述盘盖。
9.根据权利要求1所述的光处理装置，其中，所述一个或多个光源能编程为，当第一敷抹器盘附连到所述装置上时，照射第一选定的光频率，以及当第二敷抹器盘附连到所述装置上时，照射第二选定的光频率。
10.根据权利要求2所述的光处理装置，其中，所述一个或多个光源能编程为，当第一敷抹器盘附连到所述装置上时，照射第一选定的光频率，以及当第二敷抹器盘附连到所述装置上时，照射第二选定的光频率。
11.根据权利要求3所述的光处理装置，其中，所述一个或多个光源能编程为，当第一敷抹器盘附连到所述装置上时，照射第一选定的光频率，以及当第二敷抹器盘附连到所述装置上时，照射第二选定的光频率。
12.根据权利要求4所述的光处理装置，其中，所述一个或多个光源能编程为，当第一敷抹器盘附连到所述装置上时，照射第一选定的光频率，以及当第二敷抹器盘附连到所述装置上时，照射第二选定的光频率。
13.一种光处理装置，包括壳体，具有与所述壳体一体的透明或半透明的头板；面板，具有一个或多个光源，其中，所述面板固定在所述壳体内在所述透明或半透明头板后面，由此所述一个或多个光源照射通过所述头板；以及敷抹器附件，围绕所述头板能附连到所述装置，其中，所述敷抹器附件围绕保持固定的所述头板能操作地旋转。
14.根据权利要求9所述的光处理装置，其中，所述装置通过所述头板和/或所述敷抹器附件能操作地分配成分。
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