[发明专利]用于最小发散离子束的调整装置

权利要求书

1.一种用于将离子注入到工件中的离子注入系统，所述离子注入系统包括：

离子源，其配置成生成离子束；

质量分析器，其配置成对所述离子束进行质量分析；

扫描元件，其配置成在水平方向上扫描所述离子束，其中所述离子束在所述水平方向和一垂直方向上各自具有相应的焦点；

狭缝装置，其具有孔口，所述孔口选择性地设置在所述扫描元件的下游位于所述离子束的所述水平方向和垂直方向上的一个或多个相应焦点处；以及

平行化光学器件，其设置在所述狭缝装置的下游并且配置成使所述离子束平行化，由此使得在所述水平方向和垂直方向中的一个或多个方向上的角度分布最小化。

2.根据权利要求1所述的离子注入系统，其中，所述离子束包括笔形束或点束。

3.根据权利要求1所述的离子注入系统，其中，所述狭缝装置包括板，在其中限定有所述孔口。

4.根据权利要求3所述的离子注入系统，进一步包括转移装置，配置成选择性地设置所述板的位置。

5.根据权利要求4所述的离子注入系统，其中，所述转移装置包括旋转装置，所述旋转装置配置成选择性地将所述板旋转进出所述离子束的路径。

6.根据权利要求4所述的离子注入系统，其中，所述转移装置包括线性转移装置，所述线性转移装置配置成选择性地将所述板旋线性平移进出所述离子束的路径。

7.根据权利要求1所述的离子注入系统，其中，所述扫描元件配置成限定成扇形散出的经扫描离子束。

8.根据权利要求1所述的离子注入系统，还包括：

四极透镜，设置在所述扫描元件上游；以及

控制器，其中，所述扫描元件配置成在所述水平方向和垂直方向上提供所述离子束的角度分布，并且所述控制器配置成控制所述扫描元件、所述四极透镜和所述狭缝装置的所述孔口的位置中的一个或多个，以最大化所述离子束的射束电流，并最小化所述离子束在所述工件上的所述角度分布。

9.根据权利要求1所述的离子注入系统，进一步包括控制器，所述控制器配置成控制所述离子源、所述质量分析器、所述扫描元件、所述狭缝装置以及所述平行化光学器件中的一或多个，以最大化所述离子束的射束电流并最小化所述离子束在所述工件上的角度分布。

10.一种用于将离子注入到工件中的离子注入系统，所述离子注入系统包括：

离子源，其配置成生成离子束；

质量分析器，其配置成对所述离子束进行质量分析；

扫描元件，其配置成从扫描顶点在水平方向上扫描所述离子束；

平行化光学器件，其设置在所述扫描元件的下游并配置成使所述离子束平行化，由此平行化光学器件限定所述离子束在垂直方向上的垂直焦点和所述离子束在水平方向上的水平焦点中的一个或多个，其中所述垂直焦点和所述水平焦点在所述平行化光学器件的上游；以及

狭缝装置，其具有孔口，所述孔口选择性地设置在所述离子束的所述扫描顶点和所述垂直焦点中的一个或多个处，由此最小化所述离子束在所述水平方向和垂直方向中的一个或多个方向上的角度分布。

11.根据权利要求10所述的离子注入系统，其中，所述离子束包括笔形束或点束。

12.根据权利要求10所述的离子注入系统，其中，所述狭缝装置包括板，在其中限定有所述孔口。

13.根据权利要求12所述的离子注入系统，进一步包括转移装置，配置成选择性地设置所述板的位置。

14.根据权利要求13所述的离子注入系统，其中，所述转移装置包括旋转装置，所述旋转装置配置成选择性地将所述板旋转进出所述离子束的路径。