[发明专利]来自聚合物熔体的排气的气体的净化

权利要求书

1.一种用于净化来自聚合物熔体-尤其是用于连续再加工成拉伸的聚合物薄膜-的排气的气体的方法，具有如下特征：

待净化的气体从塑化单元的真空区(2)经由至少一个真空或排气管线(3)被供应至具有进气口(42)和出气口(43)的真空分离器(40)，

在所述真空分离器中可冷凝的、可冻结的和/或可再升华的物质借助冷却装置(50)从被供应的且待净化的所述气体中分离，并且将被分离的所述物质从所述真空分离器(40)中取出，

其特征在于，

在所述真空分离器(40)中借助通过对待分离的所述物质借助所述冷却装置(50)进行冷却而冻结来从待净化的所述气体中分离所述物质，

借助加热装置(60)将借助所述冷却装置(50)分离的物质至少部分地液化或软化并且从所述真空分离器(40)中取出所述被分离的物质，

以及借助尤其具有至少一个刮板(71)的机械净化装置(70)对在所述冷却装置(50)上分离的物质至少部分地在表面进行刮除。

2.根据权利要求1所述的用于净化来自聚合物熔体的排气的气体的方法，其特征在于，在所述真空分离器(40)中借助通过冷却至低于待分离的物质的三相点的温度、尤其是在零下18℃或小于零下18℃的范围内而冻结来从待净化的所述气体中分离所述物质。

3.根据权利要求1或2所述的用于净化来自聚合物熔体的排气的气体的方法，其特征在于，来自待净化的所述气体的所述物质的冻结在所述真空分离器(40)中在小于100mbar或小于10mbar的负压下实现。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的用于净化来自聚合物熔体的排气的气体的方法，其特征在于，借助所述冷却装置(50)分离的物质被加热到所述被分离的物质的至少一部分的液化温度或软化温度的范围内的温度，其中所述加热尤其以在100℃或大于100℃的范围内的温度进行。

5.一种用于净化来自聚合物熔体的排气的气体的设备(1)，其中待净化的气体借助至少一个真空或排气管线(3)从塑化单元的真空区(2)被供应至所述设备(1)，

所述设备具有真空分离器(40)，

所述真空分离器具有壳体(41)，所述壳体具有用于待净化的气体的进气口(42)和出气口(43)，

所述真空分离器具有冷却装置(50)，借助所述冷却装置能够将可冷凝的、可冻结的和/或可再升华的物质从被供应的和待净化的所述气体中分离，

并且由其能够从所述真空分离器(40)的所述壳体(41)中取出被分离的所述物质，

其特征在于，

所述冷却装置(50)被构造用于，在所述真空分离器(40)中借助待分离的所述物质的冻结实现从待净化的气体中分离所述物质，

所述真空分离器(40)配设有加热装置(60)，所述加热装置(60)适合于至少部分地液化或软化借助所述冷却装置(50)分离的物质，

所述设备还具有机械净化装置(70)，所述机械净化装置尤其具有至少一个刮板(71)，用于至少部分地在表面对所述冷却装置(50)进行刮除，

并且在所述真空分离器(40)的所述壳体(41)的下部区域中设有取出开口(44)，借助所述取出开口能够取出至少部分待液化的或待软化的所述物质。

6.根据权利要求5所述的用于净化气体的设备(1)，其特征在于，所述冷却装置(50)构造用于，冷却待净化的气体，使得所述冻结通过冷却到低于所述待分离的物质的三相点的温度，尤其是在零下18℃或小于零下18℃的范围内的温度下实现。

7.根据权利要求5或6所述的用于净化气体的设备(1)，其特征在于，所述冻结在低于100mbar、尤其是低于10mbar的负压下实现。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的用于净化气体的设备(1)，其特征在于，所述加热装置(60)构造用于，将借助所述冷却装置(50)分离的物质加热到被分离的所述物质的至少一部分的液化温度或软化温度的范围内的温度，其中所述加热尤其是在100℃或大于100℃的范围内的温度下实现。