[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法

权利要求书

1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有树脂A和树脂B，所述树脂A包含具有酸分解性基团的重复单元，所述树脂B包含具有酸分解性基团的重复单元，

所述树脂A中的所述具有酸分解性基团的重复单元的摩尔基准的含有率G_A与所述树脂B中的所述具有酸分解性基团的重复单元的摩尔基准的含有率G_B的差的绝对值即|G_A-G_B|为5摩尔％以上且20摩尔％以下，

所述树脂A中的所述酸分解性基团与所述树脂B中的所述酸分解性基团具有相同的结构，

相对于所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中的总固体成分的、所述树脂A的质量基准的含有率S_A与所述树脂B的质量基准的含有率S_B的比即S_A/S_B为10/90～90/10，

所述树脂A的重均分子量Mw_A与所述树脂B的重均分子量Mw_B的差的绝对值即|Mw_A-Mw_B|为100以上且5000以下，

所述Mw_A除以所述树脂A的数均分子量Mn_A而得的值即所述树脂A的分子量分布Mw_A/Mn_A与所述Mw_B除以所述树脂B的数均分子量Mn_B而得的值即所述树脂B的分子量分布Mw_B/Mn_B的差的绝对值即|Mw_A/Mn_A-Mw_B/Mn_B|为0.05以上。

2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述树脂A及所述树脂B所包含的所述具有酸分解性基团的重复单元由下述通式(Aa2)表示，

通式(Aa2)中，R₁₀₁表示氢原子、氟原子、碘原子、烷基或芳基，R₁₀₂表示通过酸的作用而脱离的基团。

3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述S_A/S_B为40/60～60/40。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其在25℃下的粘度为10mPa·s～100mPa·s。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述|G_A-G_B|为10摩尔％以上且20摩尔％以下。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述G_A为30摩尔％以下。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述|Mw_A/Mn_A-Mw_B/Mn_B|为0.10以上。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述|Mw_A-Mw_B|为1000以上且5000以下。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述树脂A的Z均分子量Mz_A与所述树脂B的Z均分子量Mz_B的差的绝对值即|Mz_A-Mz_B|为100以上。