[发明专利]层叠体

说明书

层叠体朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层。防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。所述层叠体的通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射测定而测得的前述防污层的源自全氟聚醚基在面内方向上的周期排列性的峰的重心位置为以下。

技术领域

本发明涉及层叠体，详细而言，涉及具备防污层的层叠体。

背景技术

以往，从防止手垢、指纹等污物附着于薄膜基材的表面、光学薄膜等光学部件的表面的观点出发，已知的是形成防污层。

作为具备这种防污层的光学薄膜，提出了例如依次具备薄膜基材、防反射层和防污层的防反射薄膜(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2020-52221号公报

发明内容

发明要解决的问题

另一方面，若拭去附着于防污层的污物，则存在防污层的防污性降低的不良情况。

本发明提供即便在拭去附着于防污层的污物后，也能够抑制防污层的防污性降低的层叠体。

用于解决问题的方案

本发明[1]是一种层叠体，其朝着厚度方向的一面侧依次具备基材层和防污层，前述防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物，所述层叠体的通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射测定而测得的前述防污层的源自全氟聚醚基在面内方向上的周期排列性的峰的重心位置为以下。

本发明[2]包括上述[1]所述的层叠体，其中，在前述防污层的厚度方向的另一面具备底漆层。

本发明[3]包括上述[2]所述的层叠体，其中，前述底漆层为包含二氧化硅的层。

本发明[4]包括上述[3]所述的层叠体，其中，前述防污层通过具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物借助硅氧烷键而形成于前述底漆层。

本发明[5]包括上述[1]所述的层叠体，其中，在前述基材层与前述防污层之间还具备密合层和防反射层。

本发明[6]包括上述[5]所述的层叠体，其中，前述防反射层由具有互不相同的折射率的两个以上的层形成。

本发明[7]包括上述[6]所述的层叠体，其中，前述防反射层包含选自由金属、金属氧化物、金属氮化物组成的组中的1种。

本发明[8]包括上述[6]或[7]所述的层叠体，其中，前述防反射层的厚度方向的一个面为包含二氧化硅的层。

发明的效果

本发明的层叠体中的防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。另外，在防污层中，通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射测定而测得的防污层的源自全氟聚醚基在面内方向上的周期排列性的峰的重心位置为以下。因此，即便在拭去附着于防污层的污物后，也能够抑制防污层的防污性降低。

附图说明

图1表示本发明的层叠体的第一实施方式的剖视图。

图2中，图2的A～图2的C表示本发明的层叠体的第一实施方式的制造方法的一个实施方式。图2的A表示在第一工序中准备基材的工序。图2的B表示在第一工序中在基材上配置硬涂层(功能层)的工序。图2的C表示在基材层上配置防污层的第二工序。

图3中，图3的A和图3的B表示堆积于基材层的具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物的说明图。图3的A表示堆积于基材层的单个具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物的说明图。图3的B表示堆积于基材层的多个具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物的说明图。

图4表示本发明的层叠体的第二实施方式的剖视图。