[发明专利]具有基于功率的宽限控制的电镀控制器

权利要求书

1.一种用于控制电镀系统的晶体管级的宽限电压以维持跨所述晶体管级的目标功率耗散的电路，所述电路包括：

晶体管级，其中所述晶体管级针对电镀系统中的负载提供宽限电压；

功率测量电路，耦接到所述晶体管级，其中所述功率测量电路提供代表所述晶体管级中的瞬时功率耗散的信号；

差分电路，从所述功率测量电路接收代表所述晶体管级中的所述瞬时功率耗散的所述信号并接收代表所述晶体管级中的所述目标功率耗散的信号以产生差异输出；及

可调整电压源，提供跨所述晶体管级及所述负载的电压，其中所述可调整电压源被配置为使用所述差异输出来调整所述宽限电压以维持所述晶体管级中的所述目标功率耗散。

2.如权利要求1所述的电路，其中所述功率测量电路进一步包括：

电压测量电路，耦接到所述晶体管级以提供代表跨所述晶体管级的电压的测量。

3.如权利要求2所述的电路，其中所述功率测量电路进一步包括：

电流测量电路，耦接到所述晶体管级以提供代表通过所述晶体管级的电流的测量。

4.如权利要求3所述的电路，其中所述功率测量电路进一步包括：

乘法器电路，接收代表跨所述晶体管级的所述电压的所述测量及代表通过所述晶体管级的所述电流的所述测量，以产生代表所述晶体管级中的瞬时功率耗散的所述信号。

5.如权利要求1所述的电路，其中所述差分电路包括运算放大器，所述运算放大器向AC到DC转换器提供输出。

6.如权利要求1所述的电路，进一步包括差分放大器，所述差分放大器接收代表通过所述晶体管级的目标电流的信号并接收通过所述晶体管级的瞬时电流。

7.如权利要求6所述的电路，其中所述差分放大器向所述晶体管级提供栅极电压以实现通过所述晶体管级的所述目标电流。

8.如权利要求1所述的电路，其中代表所述晶体管级中的所述瞬时功率耗散的所述信号包括与所述瞬时功率耗散成比例的电压。

9.一种控制电镀系统的晶体管级的宽限电压以维持跨所述晶体管级的目标功率耗散的方法，所述方法包括：

针对所述电镀系统中的负载维持所述晶体管级中的宽限电压；

测量所述晶体管级中的瞬时功率耗散；

产生代表所述晶体管级中的所述瞬时功率耗散与所述晶体管级中的所述目标功率耗散之间的差异的差异输出；及

使用所述差异输出来调整跨所述晶体管级及所述负载的电压，使得所述晶体管级中的所述宽限电压被调整以维持所述晶体管级中的所述目标功率耗散。

10.如权利要求9所述的方法，进一步包括确定跨所述晶体管级的电压。

11.如权利要求9所述的方法，进一步包括确定通过所述晶体管级的电流。

12.如权利要求9所述的方法，进一步包括将代表跨所述晶体管级的电压的信号与代表通过所述晶体管级的电流的信号相乘，以确定所述晶体管级中的所述瞬时功率耗散。

13.如权利要求9所述的方法，进一步包括随着通过所述晶体管级的电流增大，减小所述晶体管级中的所述宽限电压。

14.如权利要求9所述的方法，进一步包括按比例缩小代表所述晶体管级中的所述瞬时功率耗散的信号。

15.如权利要求9所述的方法，产生跨所述晶体管级及所述负载的所述电压的过渡，所述过渡具有小于10ms的下降时间。