[发明专利]包含抗静电剂的粘合剂组合物和表面保护膜在审

专利信息
申请号: 202180056376.2 申请日: 2021-08-13
公开(公告)号: CN116034147A 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: 崔祯珉;金章淳;康贤求;林栽承 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: C09J175/04 分类号: C09J175/04
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 梁笑;俱玉云
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 包含 抗静电 粘合剂 组合 表面 保护膜
【说明书】:

本公开内容涉及表现出减少的抗静电剂向被粘物的迁移的粘合剂组合物和表面保护膜。

技术领域

本申请要求于2020年8月18日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2020-0103552号的申请日的权益,其全部内容通过引用并入本文。

本公开内容涉及粘合剂组合物和表面保护膜。具体地,本公开内容涉及表现出减少的抗静电剂向被粘物的迁移的粘合剂组合物和表面保护膜。

背景技术

在制造OLED的过程期间,需要防止面板表面上的封装层受到外部污染物和外部刺激的损害,直到在制造塑性OLED面板之后使塑性OLED面板与触摸部粘合。为了保护封装层,在塑性OLED制造过程期间通常使用用于薄膜封装(thin film encapsulation,TFE)的过程保护膜。

该过程保护膜通常包括基底层和粘合剂层,并且在其上层合有用于保护粘合剂层的表面的离型膜。在从其上层合有离型膜的过程保护膜上剥离离型膜之后,层合过程保护膜,使得在所述过程期间粘合剂层与表面需要被保护的被粘物(例如电子组件)的表面接触。其后,如果在所述过程之后不再需要保护并且应进行另一过程,则将过程保护膜从被粘物上剥离。

该过程保护膜是层合在OLED面板的上表面上以保护OLED装置的膜。过程保护膜需要具有抗静电功能,以防止与制造设备接触时产生的或剥离层合的保护膜时能够产生的静电对OLED装置造成损害,并防止因任何残留静电引起的微细电荷而导致的面板故障,并且在从其上剥离离型膜时需要表现出低的剥离起电电压。

此外,由于过程保护膜是在制造过程期间暂时用于保护电子组件的膜,因此其需要对被粘物具有优异的润湿性,并在除去保护膜以进行另外的过程时表现出低剥离力和低残留水平,在剥离之后不应留下污染物,并且在剥离时不应对被粘物造成静电损害。因此,粘合剂层需要具有高的抗静电特性。

为了满足这样的抗静电特性,已经提出向粘合剂中添加抗静电剂的方法,但出现了在高温和高湿度的环境下抗静电剂向被粘物迁移从而造成表面污染的问题。

发明内容

技术问题

本公开内容要解决的技术问题是提供留下低水平的残留物、具有低剥离力并且防止其中包含的抗静电剂迁移的粘合剂组合物和表面保护膜。

技术方案

根据本公开内容的一个方面,提供了粘合剂组合物,所述粘合剂组合物包含含羟基的氨基甲酸酯树脂、基于异氰酸酯的固化剂、(甲基)丙烯酸酯共聚物和抗静电剂,其中(甲基)丙烯酸酯共聚物通过由包含以下的单体混合物聚合而获得:含有羟基的(甲基)丙烯酸酯单体、含有基于氟的取代基的(甲基)丙烯酸酯单体、其中烷基具有1至10个碳原子的(甲基)丙烯酸烷基酯单体和其中烷基具有12至22个碳原子的(甲基)丙烯酸烷基酯单体。

根据本公开内容的另一方面,提供了表面保护膜,所述表面保护膜包括离型膜和基底膜,其中基底膜包括:第一基底层;定位在第一基底层的至少一个表面上的抗静电层;和包含粘合剂组合物的固化产物的粘合剂层,并且离型膜与粘合剂层彼此直接接触。

有益效果

根据本公开内容的一个实施方案的粘合剂组合物的效果在于,由于其低粘合性而可以容易地从被粘物上剥离,并且不在被粘物表面上留下残留物,并且抗静电剂不向被粘物迁移,表明粘合剂组合物不污染被粘物表面。

根据本发明的另一个实施方案的表面保护膜的效果在于,由于其低粘合性而可以容易地从被粘物上剥离,并且不在被粘物表面上留下残留物,并且抗静电剂不向被粘物迁移,表明表面保护膜不污染被粘物表面。

附图说明

图1是根据本公开内容的一个实施方案的表面保护膜的示意性截面图。

图2是根据本公开内容的另一个实施方案的表面保护膜的示意性截面图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社LG化学,未经株式会社LG化学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202180056376.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top