[发明专利]图像曝光装置、图像曝光方法及程序在审
申请号: | 202180056558.X | 申请日: | 2021-07-21 |
公开(公告)号: | CN116034317A | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | 吉泽宏俊;园田慎一郎 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03B27/32 | 分类号: | G03B27/32 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 高颖 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像 曝光 装置 方法 程序 | ||
1.一种图像曝光装置,其具备:
图像显示装置,具有多个像素,从所述多个像素对感光性记录介质照射光;
支撑部件,将所述感光性记录介质支撑为曝光面与所述图像显示装置对置的状态;
限制部件,设置于所述图像显示装置与所述支撑部件之间,且限制从所述图像显示装置照射于所述感光性记录介质的所述光的角度;及
处理器,
所述处理器进行将通过仅强调输入图像的高频成分的浓度差中的暗部而生成的显示图像显示于所述图像显示装置的控制。
2.根据权利要求1所述的图像曝光装置,其中,
所述处理器通过强调所述输入图像的高频成分的浓度差中的暗部以及亮部来生成所述显示图像,
所述暗部的强调度高于所述亮部的强调度。
3.根据权利要求1或2所述的图像曝光装置,其中,
所述处理器强调通过非锐化掩模处理从所述输入图像提取的所述高频成分的浓度差。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的图像曝光装置,其中,
在将所述图像显示装置的分辨率设为D时,所述处理器将强调所述暗部的范围设为与根据M=30/(2.54×1000/D)的关系式获得的值M相应的范围,其中,所述分辨率的单位为ppi,所述值M的单位为像素数。
5.根据权利要求4所述的图像曝光装置,其中,
所述处理器将高斯滤波器的标准偏差设为所述值M以下,并进行使用所述高斯滤波器的非锐化掩模处理,由此从所述输入图像提取所述高频成分。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的图像曝光装置,其中,
所述限制部件为扩散光学系统的光学部件。
7.根据权利要求6所述的图像曝光装置,其中,
所述光学部件为如下百叶式膜,即,在与所述图像显示装置的所述像素的排列面平行的面上的第1方向上,交替配置有使光透过的第1透光部和遮蔽光的第1遮光部,且在与所述第1方向不平行的、所述面上的第2方向上,交替配置有使光透过的第2透光部和遮蔽光的第2遮光部。
8.根据权利要求6所述的图像曝光装置,其中,
所述光学部件为如下百叶式膜,即,在与所述图像显示装置的所述像素的排列面平行的面上的第1方向上,交替配置有使光透过的第1透光部和遮蔽光的第1遮光部,且在与所述第1方向垂直的、所述面上的第2方向上,交替配置有使光透过的第2透光部和遮蔽光的第2遮光部。
9.根据权利要求7或8所述的图像曝光装置,其中,
所述百叶式膜中层叠有第1层及第2层,所述第1层中,仅在所述第1方向上交替配置有所述第1透光部和所述第1遮光部,所述第2层中,仅在所述第2方向上交替配置有所述第2透光部和所述第2遮光部。
10.根据权利要求7至9中任一项所述的图像曝光装置,其中,
所述百叶式膜的厚度为2.0mm以上且4.0mm以下,
所述第1遮光部及所述第2遮光部的排列间距为80μm以下。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的图像曝光装置,其中,
所述限制部件与所述感光性记录介质相距规定距离而配置。
12.根据权利要求11所述的图像曝光装置,其中,
所述规定距离为0.67mm以下。
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