[发明专利]三甲硅烷基胺的制造装置及制造方法

权利要求书

1.三甲硅烷基胺的制造装置，包括：

反应器，其中发生三甲硅烷基胺的合成反应；

反应原料供应配管，其向所述反应器供应反应原料；

三甲硅烷基胺排放配管，其从所述反应器排放三甲硅烷基胺；

反应器加热单元，其用于加热所述反应器的反应空间；以及

气体相副产物排放配管，其从所述反应器排放气体相副产物，

其中，所述反应器的反应空间维持在低于在所述合成反应中产生的反应副产物的分解温度的温度，

所述反应器加热单元在三甲硅烷基胺通过所述三甲硅烷基胺排放配管排放后，将所述反应器的反应空间加热至高于或等于所述分解温度的温度，

所述气体相副产物排放配管排放包括由所述反应器加热单元热分解的所述反应副产物的热分解产物的气体相副产物。

2.根据权利要求1所述的三甲硅烷基胺的制造装置，其中，

所述反应器加热单元包括惰性气体供应配管，其向所述反应器的反应空间供应惰性气体；以及

惰性气体供应配管加热单元，其加热所述惰性气体供应配管。

3.根据权利要求2所述的三甲硅烷基胺的制造装置，其中，所述惰性气体为氮气。

4.根据权利要求1所述的三甲硅烷基胺的制造装置，其进一步包括：洗涤器(Scrubber)，其连接到所述气体相副产物排放配管并处理所述气体相副产物。

5.根据权利要求1所述的三甲硅烷基胺的制造装置，其进一步包括：

冷凝器，其连接到所述三甲硅烷基胺排放配管并冷凝气体相的三甲硅烷基胺；以及

三甲硅烷基胺收集容器，其用于收集冷凝的三甲硅烷基胺。

6.根据权利要求1所述的三甲硅烷基胺的制造装置，其中，所述反应器包括多个反应容器，其并列连接到反应原料的供应源，并可同时或交替地操作。

7.根据权利要求6所述的三甲硅烷基胺的制造装置，其中，

所述反应器包括第一反应容器和第二反应容器，并

配置成使得在所述第一反应容器中进行反应时，至少第二反应容器的反应空间被加热至高于或等于所述分解温度的温度。

8.根据权利要求1所述的三甲硅烷基胺的制造装置，其中，

所述反应原料供应配管包括单氯甲硅烷的供应配管和氨的供应配管，并且

所述单氯甲硅烷的供应配管和所述氨的供应配管分别独立地连接到所述反应器。

9.根据权利要求1所述的三甲硅烷基胺的制造装置，其进一步包括：

固体相反应副产物收集容器，其连接到所述反应器并收集固体相的反应副产物；以及

闸阀，其在所述固体相反应副产物收集容器和所述反应器之间打开和关闭。

10.根据权利要求1所述的三甲硅烷基胺的制造装置，其中，

所述反应器为间歇(batch)式反应器。

11.根据权利要求1所述的三甲硅烷基胺的制造装置，其中，

所述反应器为连续式反应器。

12.三甲硅烷基胺的制造方法，包括：

使反应原料流入反应器中的反应原料流入步骤；

使流入的所述反应原料进行反应以产生三甲硅烷基胺和反应副产物的反应步骤；

从所述反应器排放三甲硅烷基胺的三甲硅烷基胺排放步骤；

在所述三甲硅烷基胺排放步骤后，在所述反应器中热分解所述反应副产物的反应副产物热分解步骤；以及

从所述反应器排放在所述反应副产物热分解步骤中获得的气体相副产物的气体相副产物排放步骤，

其中，

在所述反应步骤中，所述反应器内的温度维持在低于所述反应副产物的分解温度的温度，

所述反应副产物热分解步骤包括将所述反应器的反应空间加热至高于或等于所述反应副产物的分解温度的温度。