[发明专利]气体分离系统及混合气体的分离方法在审
| 申请号： | 202180057447.0 | 申请日： | 2021-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN116056778A | 公开（公告）日： | 2023-05-02 |
| 发明（设计）人： | 井原辉一;西山真哉;谷贤辅;福村卓哉;片桐慎 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | B01D53/22 | 分类号： | B01D53/22 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 气体 分离 系统 混合气体 方法 | ||
1.气体分离系统，其具备：
将包含二氧化碳及氮的混合气体分离为第1透过气体和第1非透过气体的第1分离膜单元；
将所述第1透过气体分离为第2透过气体和第2非透过气体的第2分离膜单元；
对所述第1分离膜单元的透过侧空间进行减压的第1减压装置；和
对所述第2分离膜单元的透过侧空间进行减压的第2减压装置。
2.如权利要求1所述的气体分离系统，其为连续式系统。
3.如权利要求1或2所述的气体分离系统，其中，下述(I)及(II)中的至少一者成立：
(I)在通过所述第1减压装置对所述第1分离膜单元的所述透过侧空间进行减压的同时，将所述混合气体分离为所述第1透过气体和所述第1非透过气体；
(II)在通过所述第2减压装置对所述第2分离膜单元的所述透过侧空间进行减压的同时，将所述第1透过气体分离为所述第2透过气体和所述第2非透过气体。
4.如权利要求1～3中任一项所述的气体分离系统，其中，
所述混合气体包含主成分气体及副成分气体，
所述第1透过气体中的所述副成分气体的含有率比所述混合气体高，
所述第1非透过气体中的所述副成分气体的含有率比所述混合气体低。
5.如权利要求4所述的气体分离系统，其中，
所述第2透过气体中的所述副成分气体的含有率比所述第1透过气体高，
所述第2非透过气体中的所述副成分气体的含有率比所述第1透过气体低。
6.如权利要求4或5所述的气体分离系统，其中，所述混合气体包含氮作为所述主成分气体、且包含二氧化碳作为所述副成分气体。
7.如权利要求1～6中任一项所述的气体分离系统，其中，所述混合气体中的二氧化碳的含有率CCO2(wt％)、及所述混合气体中的氮的含有率CN2(wt％)满足下述关系式(1)，
CCO2＜CN2/4 (1)。
8.如权利要求1～7中任一项所述的气体分离系统，其中，所述混合气体中的二氧化碳的含有率为5wt％以上。
9.如权利要求1～8中任一项所述的气体分离系统，其中，
所述第2透过气体中的二氧化碳的含有率为80wt％以上，
所述第1非透过气体中的氮的含有率为95wt％以上。
10.如权利要求1～9中任一项所述的气体分离系统，其还具备：连接于所述第1分离膜单元及所述第2分离膜单元、用于向所述第2分离膜单元供给所述第1透过气体的透过气体供给路径，
所述第1减压装置配置于所述透过气体供给路径。
11.如权利要求10所述的气体分离系统，其中，在所述透过气体供给路径未配置捕集所述第1透过气体的捕集器。
12.如权利要求10或11所述的气体分离系统，其中，所述透过气体供给路径仅由所述第1减压装置及配管构成。
13.如权利要求1～12中任一项所述的气体分离系统，其具备多个所述第1分离膜单元。
14.如权利要求13所述的气体分离系统，其中，所述第1减压装置为多个所述第1分离膜单元所共用。
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