[发明专利]用于沉积深度变化的折射率膜的方法在审
申请号: | 202180059409.9 | 申请日: | 2021-07-08 |
公开(公告)号: | CN116157547A | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | 安德鲁·塞巴洛斯;卢多维克·戈代;卡尔·J·阿姆斯特朗;拉米·胡拉尼 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 沉积 深度 变化 折射率 方法 | ||
1.一种光学装置膜,包括:
厚度,所述厚度被分成从实质上对应于所述厚度的0%的第一表面至实质上对应于所述厚度的100%的第二表面的区域范围,所述区域范围的每个区域具有区域厚度;
在所述光学装置膜的所述区域范围的每个区域中的氧浓度或氮浓度;
第一材料,所述第一材料的第一折射率为约2.0或更大,所述第一材料在整个所述区域范围内具有第一浓度分布;和
第二材料,所述第二材料的第二折射率为小于2.0,所述第二材料在整个所述区域范围内具有第二浓度分布,所述第二浓度分布不同于所述第一浓度分布。
2.如权利要求1所述的光学装置膜,其中所述区域厚度为所述厚度的约0.001%至约50%。
3.如权利要求1所述的光学装置膜,其中所述第一材料包括钛(Ti)、钽(Ta)、锆(Zr)、铟(In)或铌(Nb)的氧化物或氮化物。
4.如权利要求1所述的光学装置膜,其中所述第二材料包括硅(Si)、铝(Al)、铪(Hf)、钪(Sc)、锡(Sn)、钇(Y)、镨(Pr)或镁(Mg)的氧化物或氮化物。
5.如权利要求1所述的光学装置膜,其中所述氧浓度为约66.67原子百分比±10%。
6.如权利要求1所述的光学装置膜,其中:
所述区域范围的邻近所述第一表面的初始区域包括:
最大浓度的所述第一材料;和
0原子百分比的最小浓度的所述第二材料;并且
所述区域范围的邻近所述第二表面的最终区域包括:
0原子百分比的最小浓度的所述第一材料;和
最大浓度的所述第二材料。
7.如权利要求6所述的光学装置膜,其中:
所述第一浓度分布具有紧接在前一区域上方设置的每个区域的第一浓度,所述第一浓度不大于所述前一区域的所述第一浓度;并且
所述第二浓度分布具有紧接在所述前一区域上方设置的每个区域的第二浓度,所述第二浓度不小于所述前一区域的所述第二浓度。
8.如权利要求6所述的光学装置膜,其中:
所述第一浓度分布在所述区域范围的所述初始区域处具有所述最大浓度,所述第一浓度分布在所述区域范围的中点处具有所述最小浓度,所述第一浓度分布在所述区域范围的所述最终区域处具有所述最大浓度;并且
所述第二浓度分布在所述区域范围的所述初始区域处具有所述最小浓度,所述第二浓度分布在所述区域范围的所述中点处具有所述最大浓度,所述第二浓度分布在所述区域范围的所述最终区域处具有所述最小浓度。
9.如权利要求1所述的光学装置膜,其中:
所述区域范围的邻近所述第一表面的初始区域包括:
最大浓度的所述第二材料;和
0原子百分比的最小浓度的所述第一材料;并且
所述区域范围的邻近所述第二表面的最终区域包括:
0原子百分比的最小浓度的所述第二材料;和
最大浓度的所述第一材料。
10.如权利要求9所述的光学装置膜,其中:
所述第一浓度分布具有紧接在前一区域上方设置的每个区域的第一浓度,所述第一浓度不小于所述前一区域的所述第一浓度;并且
所述第二浓度分布具有紧接在所述前一区域上方设置的每个区域的第二浓度,所述第二浓度不大于所述前一区域的所述第二浓度。
11.如权利要求9所述的光学装置膜,其中:
所述第一浓度分布在所述区域范围的所述初始区域处具有所述最小浓度,所述第一浓度分布在所述区域范围的中点处具有所述最大浓度,所述第一浓度分布在所述区域范围的所述最终区域处具有所述最小浓度;并且
所述第二浓度分布在所述区域范围的所述初始区域处具有所述最大浓度,所述第二浓度分布在所述区域范围的所述中点处具有所述最小浓度,所述第二浓度分布在所述区域范围的所述最终区域处具有所述最大浓度。
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