[发明专利]观察装置和观察方法在审
申请号: | 202180062034.1 | 申请日: | 2021-01-21 |
公开(公告)号: | CN116194818A | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
发明(设计)人: | 安彦修;竹内康造;山田秀直 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | G02B21/36 | 分类号: | G02B21/36 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 观察 装置 方法 | ||
1.一种观察装置,其中,
包括:
干涉强度图像取得部,其关于多个光照射方向的各个取得沿所述多个光照射方向的各个对观察对象物照射并经过了所述观察对象物的光与参照光的干涉所引起的基准位置的干涉强度图像;
第1复振幅图像生成部,其关于所述多个光照射方向的各个,基于所述基准位置的所述干涉强度图像生成所述基准位置的复振幅图像;和
2维相位图像生成部,其基于所述多个光照射方向各自的所述复振幅图像生成2维相位图像,
所述2维相位图像生成部,
在基于光照射方向校正所述多个光照射方向各自的所述复振幅图像的相位后,生成表示这些校正后的复振幅图像的总和的复振幅总和图像,
基于所述复振幅总和图像生成所述2维相位图像。
2.一种观察装置,其中,
包括:
干涉强度图像取得部,其关于多个光照射方向的各个取得沿所述多个光照射方向的各个对观察对象物照射并经过了所述观察对象物的光与参照光的干涉所引起的基准位置的干涉强度图像;
第1复振幅图像生成部,其关于所述多个光照射方向的各个,基于所述基准位置的所述干涉强度图像生成所述基准位置的复振幅图像;和
2维相位图像生成部,其基于所述多个光照射方向各自的所述复振幅图像生成2维相位图像,
所述2维相位图像生成部,
基于所述多个光照射方向各自的所述复振幅图像生成所述多个光照射方向各自的复微分干涉图像,
基于所述多个光照射方向各自的所述复微分干涉图像生成所述2维相位图像。
3.如权利要求2所述的观察装置,其特征在于,
所述2维相位图像生成部,
基于所述多个光照射方向各自的所述复振幅图像,关于该图像上的相互不同的多个错切方向的各个,生成所述多个光照射方向各自的复微分干涉图像,
基于所述多个错切方向和所述多个光照射方向各自的所述复微分干涉图像生成所述2维相位图像。
4.一种观察装置,其中,
包括:
干涉强度图像取得部,其关于多个光照射方向的各个取得沿所述多个光照射方向的各个对观察对象物照射并经过了所述观察对象物的光与参照光的干涉所引起的基准位置的干涉强度图像;
第1复振幅图像生成部,其关于所述多个光照射方向的各个,基于所述基准位置的所述干涉强度图像生成所述基准位置的复振幅图像;和
2维相位图像生成部,其基于所述多个光照射方向各自的所述复振幅图像生成2维相位图像,
所述2维相位图像生成部,
将所述多个光照射方向各自的所述复振幅图像区分为多个批次,关于所述多个批次的各个,基于光照射方向校正该批次所包含的所述复振幅图像的相位后,生成表示这些校正后的复振幅图像的总和的复振幅总和图像,
基于所述多个批次各自的所述复振幅总和图像生成所述多个批次各自的复微分干涉图像,
基于所述多个批次各自的所述复微分干涉图像生成所述2维相位图像。
5.如权利要求4所述的观察装置,其中,
所述2维相位图像生成部,
将所述多个光照射方向各自的所述复振幅图像区分为多个批次,关于所述多个批次的各个,基于光照射方向校正该批次所包含的所述复振幅图像的相位后,生成表示这些校正后的复振幅图像的总和的复振幅总和图像,
基于所述多个批次各自的所述复振幅总和图像,关于该图像上的相互不同的多个错切方向的各个,生成所述多个批次各自的复微分干涉图像,
基于所述多个错切方向和所述多个批次各自的所述复微分干涉图像生成所述2维相位图像。
6.如权利要求1~5中的任一项所述的观察装置,其中,
还包括:
第2复振幅图像生成部,其关于所述多个光照射方向的各个,基于由所述第1复振幅图像生成部生成的所述基准位置的所述复振幅图像生成多个位置各自的复振幅图像;
3维相位图像生成部,其基于由所述2维相位图像生成部生成的所述多个位置各自的所述2维相位图像生成3维相位图像;和
折射率分布计算部,其基于所述3维相位图像求取所述观察对象物的3维折射率分布。
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