[发明专利]具有在开口上方的掩模的增材制造物体在审

专利信息
申请号: 202180063188.2 申请日: 2021-10-14
公开(公告)号: CN116490306A 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 马修·特洛伊·哈夫纳;C·D·波特;扎卡里·约翰·斯奈德;杰弗里·克拉伦斯·琼斯 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: B22F10/40 分类号: B22F10/40
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 梁瑜;臧建明
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 开口 上方 制造 物体
【权利要求书】:

1.一种增材制造(AM)结构(103),包括:

物体(102),所述物体包括主体(104),所述主体包括在其外表面(110)中的开口(106),所述开口(106)具有在所述主体(104)的所述外表面(110)处的第一区域和形状;

掩模(100),所述掩模被定位在所述开口(106)上方并且具有所述开口(106)的形状,所述掩模(100)具有大于所述第一区域的第二区域,以便围绕所述开口(106)悬垂(112)在所述主体(104)的所述外表面(110)上;和

多个支撑系带(130),每个支撑系带(130)在靠近所述开口(106)的位置处联接到所述掩模(100)和所述主体(104)的所述外表面(110),以支撑所述掩模(100)的一部分(188)。

2.根据权利要求1所述的AM结构(103),其中所述多个支撑系带(130)是可断裂的,以从其移除所述掩模(100)。

3.根据权利要求1所述的AM结构(103),所述AM结构还包括联接到所述悬垂部(112)和所述主体(104)的所述外表面(110)的悬垂支撑元件(140),以在增材制造期间支撑所述悬垂部(112)。

4.根据权利要求1所述的AM结构(103),所述AM结构还包括从所述掩模(100)延伸的脱离构件(160)。

5.根据权利要求1所述的AM结构(103),其中所述开口(106)和所述掩模(100)呈:椭圆形和梯形中的一种。

6.根据权利要求1所述的AM结构(103),其中所述掩模(100)包括与所述主体(104)的所述外表面(110)间隔开并且在所述开口(106)上方的下侧(118),并且所述掩模还包括从所述下侧(118)延伸朝向所述开口(106)的裙状部(146),所述裙状部(146)具有下端(150),所述下端限定与所述主体(104)的所述外表面(110)间隔开的裙状部(146)。

7.根据权利要求6所述的AM结构(103),其中所述裙状部(146)间距在0.050毫米至0.500毫米之间。

8.根据权利要求1所述的AM结构(103),其中至少支撑系带(130)包括沿着所述多个支撑系带(130)中的至少一个支撑系带的长度的移除连结件(170),所述移除连结件(170)的侧向横截面尺寸比所述多个支撑系带(130)中的至少一个支撑系带的其余部分更小。

9.根据权利要求1所述的AM结构(103),其中所述多个支撑系带(130)包括在所述开口(106)的一侧上的至少一个支撑系带(130),以及在所述开口(106)的另一侧上的至少支撑一个支撑系带(130)。

10.一种增材制造(AM)物体(102),包括:

主体(104),所述主体包括在其外表面(110)中的开口(106),所述开口(106)具有在所述主体(104)的所述外表面(110)处的第一区域和形状;

涂层(134),所述涂层在所述主体(104)的所述外表面(110)上;和

多个系带元件(180),所述多个系带元件从所述主体(104)的所述外表面(110)延伸并且穿过靠近所述开口(106)的所述涂层(134),每个系带元件(180)至少部分地由所述涂层(134)围绕。

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