[发明专利]具有投影系统的位置控制的量测工具

权利要求书

1.一种量测工具，包括：

衬底台，所述衬底台用于保持衬底；

投影系统，所述投影系统被配置成将束投影在所述衬底的目标部分上；

致动器，所述致动器被配置成调整所述投影系统相对于所述衬底台上的所述衬底的位置；

传感器，所述传感器被配置成确定所述衬底台的位置；以及

一个或更多个处理器，所述一个或更多个处理器被配置成：

基于所述衬底台的所述位置，确定所述衬底台相对于参考物的位置误差；以及

经由所述致动器，控制所述投影系统的位置以补偿所述衬底台的所述位置误差，使得所述束投影在所述衬底的所述目标部分上。

2.根据权利要求1所述的量测工具，其中，所述一个或更多个处理器还被配置成：

经由另一致动器将所述衬底台移动至第一位置。

3.根据权利要求2所述的量测工具，其中，所述衬底台在相对于目标位置为±300μm的准确度范围内移动。

4.根据权利要求2所述的量测工具，其中，所述一个或更多个处理器被配置成：

基于所述第一位置，确定所述衬底台相对于目标位置的所述位置误差；

基于所述位置误差，确定移动所述投影系统以补偿所述衬底的所述位置误差的调整量；以及

经由所述致动器，以所述调整量控制所述投影系统的所述位置。

5.根据权利要求1所述的量测工具，还包括：

另一传感器，所述另一传感器被配置成确定所述投影系统相对于其上安装有所述投影系统的框架的位置。

6.根据权利要求5所述的量测工具，其中，所述一个或更多个处理器还被配置成：

基于所述衬底台的所述位置误差和所述投影系统的所述位置，控制所述投影系统的所述位置以补偿所述衬底台的所述位置误差，使得所述束投影在所述衬底的所述目标部分上。

7.根据权利要求1所述的量测工具，其中，

所述投影系统被配置成捕获所述衬底的所述目标部分的图像；并且

所述一个或更多个处理器还被配置成：

基于所述图像确定所述投影系统相对于所述衬底的所述目标部分的位置；以及

基于所述衬底台的所述位置误差和所述投影系统的被确定的位置，控制所述投影系统的所述位置以补偿所述衬底台的所述位置误差，使得所述束投影在所述衬底的所述目标部分上。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的量测工具，其中，所述致动器为压电致动器或洛伦兹致动器中的至少一个。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的量测工具，其中，以相对于所述目标位置为±2μm的位置准确度来控制所述投影系统的所述位置。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的量测工具，其中，所述致动器被配置成控制所述投影系统在所述衬底的平面内的所述位置。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的量测工具，其中，所述致动器被配置成在线性方向上移动所述投影系统。

12.根据权利要求11所述的量测工具，其中，所述线性方向是在所述衬底的平面内的x方向和/或y方向。

13.根据权利要求1至11中任一项所述的量测工具，其中，所述致动器被定位成通过使所述投影系统倾斜以在一角度方向上移动所述投影系统，以使得所述束在所述衬底的平面内投影在所述目标部分处。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的量测工具，其中，所述一个或更多个处理器为以下各项中的至少一个：

比例(P)控制器，所述比例控制器被配置成确定移动所述投影系统以补偿所述衬底台的所述位置误差的调整量；

积分(I)控制器，所述积分控制器被配置成确定移动所述投影系统以补偿所述衬底台的所述位置误差的所述调整量；

差分(D)控制器，所述差分控制器被配置成确定移动所述投影系统以补偿所述衬底台的所述位置误差的所述调整量；或

PID控制器，所述PID控制器被配置成确定移动所述投影系统以补偿所述衬底台的所述位置误差的所述调整量。