[发明专利]用于提高寿命的低轮廓沉积环

权利要求书

1.一种用于在处理腔室中使用的沉积环，包括：

环状主体；

内壁，所述内壁从所述环状主体的内部部分向上延伸；以及

外壁，所述外壁从所述环状主体的外部部分向上延伸，以在所述内壁与所述外壁之间限定大沉积腔体，其中所述大沉积腔体的宽度为约0.35英寸至约0.60英寸，其中所述外壁包括外凸架和相对于所述外凸架抬升的内凸架；

其中所述外壁的内表面包括垂直部分和从所述垂直部分延伸至所述大沉积腔体的底部表面的圆弧部分；以及

其中所述内壁的外表面包括垂直部分和从所述垂直部分延伸至所述大沉积腔体的所述底部表面的圆弧部分。

2.如权利要求1所述的沉积环，其中所述内凸架相对于所述外凸架抬升约0.05英寸至约0.15英寸。

3.如权利要求1所述的沉积环，其中所述大沉积腔体的所述宽度为约0.48英寸至约0.55英寸。

4.如权利要求1所述的沉积环，其中所述大沉积腔体的从所述大沉积腔体的底部表面至所述内壁的顶部表面的高度为约0.05英寸至约0.20英寸。

5.如权利要求1所述的沉积环，其中所述环状主体的在所述大沉积腔体的所述底部表面与所述环状主体的下表面之间的厚度为约0.05英寸至约0.15英寸。

6.如权利要求1至5中任一项所述的沉积环，其中所述环状主体的下表面包括在所述下表面的径向向内部分处与所述环状主体的所述内表面相邻的下槽口。

7.如权利要求6所述的沉积环，其中所述下槽口的最外部分设置在所述大沉积腔体的径向内侧。

8.如权利要求1至5中任一项所述的沉积环，其中所述内壁包括在所述内壁的顶部外周边边缘处的外槽口。

9.如权利要求1至5中任一项所述的沉积环，其中所述外凸架的上表面是基本上水平的而没有任何沟槽或通道。

10.如权利要求1至5中任一项所述的沉积环，其中所述外凸架的外表面包括上部部分和下部部分，其中所述上部部分相对于所述下部部分以一角度延伸。

11.如权利要求1至5中任一项所述的沉积环，其中所述沉积环由不锈钢、氧化铝或钛制成。

12.如权利要求1至5中任一项所述的沉积环，其中所述外凸架的外表面包括上部部分和下部部分，其中所述下部部分是基本上垂直的，并且所述上部部分相对于所述下部部分以一角度延伸至所述外凸架的上表面。

13.如权利要求1至5中任一项所述的沉积环，其中所述外壁的内表面包括垂直部分和从所述垂直部分延伸至所述大沉积腔体的底部表面的圆弧部分。

14.如权利要求1至5中任一项所述的沉积环，其中所述大沉积腔体的表面包括氧化铝涂层。

15.一种用于在处理腔室中使用的处理套件，包括：

如权利要求1至5中任一项所述的沉积环，其中所述大沉积腔体具有在所述内壁与所述外壁之间的U形轮廓；以及

盖环，所述盖环具有环状主体、从所述环状主体向下延伸的内支腿、从所述环状主体径向向内延伸的内唇部、以及在所述内支腿与所述内唇部之间延伸的凸架，其中所述凸架配置成放置在所述沉积环的所述外凸架上。

16.如权利要求15所述的处理套件，其中所述外凸架的外表面包括上部部分和下部部分，其中所述下部部分是基本上垂直的，并且所述上部部分相对于所述下部部分以一角度延伸至所述外凸架的上表面。