[发明专利]用于电子束发射器的电子出射窗箔

权利要求书

1.一种用于电子束发射器(100)的电子出射窗箔(106，106a)，所述电子束发射器(100)具有电子束发生器(103)并在腐蚀性环境(P1)中操作，所述电子出射窗箔(106，106a)具有夹层结构(107)，所述夹层结构(107)具有被布置成面对所述腐蚀性环境(P1)的外侧(2)和被布置成面对所述电子束发生器(103)的内侧(16)，所述夹层结构(107)从所述外侧(2)到所述内侧(16)看包括，

用于保护所述夹层结构(107)免受所述腐蚀性环境(P1)影响的包括金属的保护层(4)，

用于为所述夹层结构(107)提供结构支撑的由Ti制成的支撑层(8)，以及

用于从所述夹层结构(107)输送热量的由Al制成的导热层(12)。

2.根据权利要求1所述的电子出射窗箔(106b)，其中所述夹层结构(107)包括：

布置在Ti层(8)和所述Al层(12)之间的由ZrO₂制成的层(10)，所述层(10)用于减少所述Ti层(8)和所述Al层(12)之间的扩散。

3.根据任一前述权利要求所述的电子出射窗箔(106c)，其中所述夹层结构(107)包括：

布置在所述保护层(4)和所述Ti层(8)之间的由Zr制成的层(6)，所述层(6)用作所述保护层(4)和所述Ti层(8)之间的结合层。

4.根据任一前述权利要求所述的电子出射窗箔(106d)，其中所述夹层结构(107)包括：

由ZrO₂制成的层(14)，所述层(14)被布置在所述Al层(12)上，在所述Al-层(12)的被布置为面对所述电子束发生器(103)的一侧上。

5.根据任一前述权利要求所述的电子出射窗箔(106，106a)，其中所述保护层(4)包括以下中的一种或多种：

-贵金属、贵金属氮化物、贵金属碳化物和/或贵金属氧化物，优选其中贵金属为铑Rh、钌Ru、钯Pd、银、锇Os、铱Ir、铂Pt或金Au，和/或

-锆Zr、碳化锆、氮化锆和/或氧化锆ZrO₂，和/或

-钛Ti、碳化钛、氮化钛和/或氧化钛，和/或

-钽Ta、碳化钽、氮化钽和/或氧化钽，和/或

-铌Nb、碳化铌、氮化铌和/或氧化铌，和/或

-铪Hf、碳化铪、氮化铪和/或氧化铪，和/或

-铬Cr、碳化铬、氮化铬和/或氧化铬，和/或

-镍Ni、碳化镍、氮化镍和/或氧化镍，和/或

-钼Mo、碳化钼、氮化钼和/或氧化钼，和/或

-钛、钽、铪的组合，和/或

-钛、钽、铪、锆的组合，和/或

-钛、钽、铌的组合，和/或

-钛、锆、铪、铌、钽的组合。

6.根据任一前述权利要求所述的电子出射窗箔(106，106a)，其中，所述保护层(4)具有在50nm至200nm区间内的厚度，或者具有在70nm至150nm区间内的厚度。

7.根据任一前述权利要求所述的电子出射窗箔(106，106a)，其中所述Ti层具有在5000nm至8000nm区间内的厚度，或者具有在6500nm至7200nm区间内的厚度。

8.根据任一前述权利要求所述的电子出射窗箔(106，106a)，其中所述Al层具有在1000nm至3000nm区间内的厚度，或者具有在2500nm至3000nm区间内的厚度。

9.根据权利要求2所述的电子出射窗箔(106b)，其中在Ti层(8)和所述Al层(12)之间的ZrO₂层(10)具有在10nm至30nm区间内的厚度，或者具有在15nm至20nm区间内的厚度。

10.根据权利要求3所述的电子出射窗箔(106c)，其中所述Zr层(6)具有在5nm至15nm区间内的厚度，或者具有在8nm至12nm区间内的厚度。