[发明专利]使用激光烧蚀生产纳米流体的方法，相应的纳米流体和用于制造纳米流体的激光烧蚀系统

权利要求书

1.一种生产纳米流体的方法，其包括激光烧蚀在其表面上流动液体的靶。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法包括使所述靶和激光束彼此相对移动的所述步骤。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述方法包括相对于所述激光束移动所述靶的所述步骤，使得当所述激光束沿所述Y方向取向并且所述靶面对所述激光束时，所述激光束沿所述X或Z方向扫描所述靶的所述表面。

4.根据前述权利要求中任一项或多项所述的方法，其中，所述液体在被激光烧蚀的所述靶的所述表面上连续流动，并且所述液体布置成以预定速度在所述靶上流动，以便保持在所述靶上流动的所述液体的预定厚度。

5.根据前述权利要求中任一项或多项所述的方法，其中，所述液体被加热到预定温度。

6.根据前述权利要求中任一项或多项所述的方法，其中，所述液体为包括水、蓖麻油、发动机油或鲁比亚油的所述组中的任一种或多种的所述形式。

7.根据前述权利要求中任一项或多项所述的方法，其中，所述靶为包括金属靶、氧化物靶、氮化物靶或碳化物靶的所述组中的任一种或多种的所述形式。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述金属靶为基于铂族金属(PGMs)的非氧化但原始金属的所述形式。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其中，所述金属靶为Cu或Al的所述形式。

10.根据权利要求7至9中任一项或多项所述的方法，其中，所述氧化物靶为氧化金属的所述形式。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述氧化金属选自包括CuO Al₂O₃、TiO₂或MgO的所述组。

12.根据权利要求7至11中任一项或多项所述的方法，其中，所述氮化物靶为TiN的所述形式。

13.根据权利要求7至12中任一项或多项所述的方法，其中，所述碳化物靶为TiC或WC的所述形式。

14.根据前述权利要求中任一项或多项所述的方法，其中，所述方法包括收集携带激光烧蚀颗粒的所述液体的所述步骤，其中，所述激光烧蚀颗粒悬浮在所述收集的液体中，其中，所述液体和悬浮的激光烧蚀颗粒限定所述纳米流体。

15.根据前述权利要求中任一项或多项所述的方法，其中，所述方法包括在开放气氛中激光烧蚀所述靶的所述步骤。

16.根据上文所述的方法制造的纳米流体。

17.一种用于制造纳米流体的激光烧蚀系统，所述激光烧蚀系统包括：

用于产生激光束的激光束源；

被布置成处于所述激光束的所述路径中的靶；以及

液体源，用于排放布置成被激光烧蚀的所述靶的表面上的液体。

18.根据权利要求17所述的激光烧蚀系统，其包括与所述靶流体连通的一系列出口，用于将所述液体从所述液体源排放到所述靶的布置成被激光烧蚀的所述表面上。

19.根据权利要求17或18所述的激光烧蚀系统，其包括用于调节所述液体在所述靶的所述表面上排放的速率的装置。

20.根据权利要求17至19中任一项或多项所述的激光烧蚀系统，其包括加热装置，所述加热装置用于加热布置成在所述靶的所述表面上排放的所述液体。