[发明专利]光学结构在审
| 申请号： | 202180068594.8 | 申请日： | 2021-10-05 |
| 公开（公告）号： | CN116348791A | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 富冈峻悟 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 常海涛;金小芳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学结构，具备：
包含低折射率材料和介质的层、和
设置在所述层的表面的功能层，
所述层中的所述低折射率材料的含量为60质量％以上76质量％以下。
2.根据权利要求1所述的光学结构，其中，
所述层在可见波长下的折射率为1.25以上1.33以下。
3.根据权利要求1或2所述的光学结构，其中，
所述低折射率材料包含二氧化硅。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学结构，其中，
所述低折射率材料包含在可见波长下具有透明性的无机中空填料。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学结构，其中，
所述功能层为衍射光栅。
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